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四氯硅烷
合成路线
（共 846 条）
2441-27-2
三氯-(1-氯乙烯基)硅烷
→
反应条件
10026-04-7
四氯硅烷
反应条件
in neat (no solvent) byproducts: C2H2; partial decompn. at 610°C;;
参考文献
US2512390 , ;
C. I, , p. 653
4170-50-7
1,2-二溴乙基三氯硅烷
→
反应条件
10026-04-7
四氯硅烷
+
18038-34-1
反应条件
quinoline in quinoline (CH2BrCHBr)SiCl3 and quinoline at <= 165°C;;
参考文献
Journal of the American Chemical Society, , vol. 74, p. 3899 - 3902
Si: MVol.C, 51, page 146 - 149
18038-65-8
→
反应条件
10026-04-7
四氯硅烷
+
593-92-0
1.1-二溴乙烯
反应条件
quinoline in quinoline
参考文献
Journal of the American Chemical Society, , vol. 74, p. 3899 - 3902
Si: MVol.C, 51, page 146 - 149
→
反应条件
10026-04-7
四氯硅烷
反应条件
in neat (no solvent) byproducts: Pb silicate; Electric Arc; local and slight reaction;;
参考文献
Trans. Am. Electrochem. Soc., , vol. 39, p. 377 - 416
10025-68-0
二氯化二硒
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
7782-49-2
硒
+
10026-04-7
四氯硅烷
反应条件
in neat (no solvent)
参考文献
Journal of the American Chemical Society, , vol. 48, p. 1550 - 1556
Se: MVol.B, 55, page 121 - 123
7440-21-3
硅
→
反应条件
75-79-6
甲基三氯硅烷
+
10026-04-7
四氯硅烷
反应条件
anhydrous methyl chloride in neat (no solvent) Si and a mixt. of CH3Cl and HCl (3:1) at 350°C;;
参考文献
Gmelin Handbook: Si: MVol.C, 42, page 126 - 128
Full Text Show Details
Shimazu Manufacturing Co.
Patent: JP2371 , 1950 ;
C. A., 1953 , p. 2766
18156-99-5
→
反应条件
10026-04-7
四氯硅烷
+
6544-02-1
四异硫氰酸硅
反应条件
in neat (no solvent) SiCl3(CNS) is passed through a tube at 600°C;;
参考文献
Journal of the American Chemical Society, , vol. 67, p. 1911 - 1914
10025-67-9
二氯化二硫
+
112926-00-8
高纯度硅胶I
→
反应条件
10026-04-7
四氯硅烷
反应条件
in neat (no solvent) reaction of an excess of S2Cl2 with calcined SiO2 at 1000 °C for 1 h;;
参考文献
Mitt. wiss.-techn. Arbeiten in der Republik (russ.), , vol. 13, p. 64 - 65
C. II, , p. 388
Si: MVol.B, 244, page 661 - 663
112926-00-8
高纯度硅胶I
+
7782-50-5
氯
→
反应条件
10026-04-7
四氯硅烷
反应条件
carbon in neat (no solvent) reaction of a mixture of Kieselgur (germ.) or a other SiO2-containing substance and coke with Cl2 with addition of H2O in presence of ZnCl2, MnCl4 or FeCl3 at red heat;;
参考文献
Si: MVol.B, 244, page 661 - 663
DE375713 , ;
C. IV, , p. 285
GB176811 , ;
C. IV, , p. 132
FR548691 , ;
C. I, , p. 564
10025-78-2
三氯氢硅
→
反应条件
10026-04-7
四氯硅烷
+
13966-57-9
+
7440-21-3
硅
+
4109-96-0
二氯硅烷
反应条件
homogeneous catalyst, preferably pyridinium, phosphonium or imidazolium salt Industry scale;
参考文献
US2008/319214 A1, ;
Page/Page column 4-5 ;
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