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63148-62-9
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471-34-1
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四氯硅烷
合成路线
（共 846 条）
109-99-9
四氢呋喃
+
10026-04-7
四氯硅烷
→
反应条件
14049-36-6
氯三氟硅烷
反应条件
in tetrahydrofuran at 20-25°C (according to Bull. Chem. Soc. Jpn 1971, 44, 2555-2556);
参考文献
Angewandte Chemie - International Edition, , vol. 43, # 23 p. 3056 - 3058
10026-04-7
四氯硅烷
+
75-05-8
乙腈
→
反应条件
14049-36-6
氯三氟硅烷
反应条件
in acetonitrile at 20-25°C (according to Bull. Chem. Soc. Jpn 1971, 44, 2555-2556);
参考文献
Angewandte Chemie - International Edition, , vol. 43, # 23 p. 3056 - 3058
109-99-9
四氢呋喃
+
10026-04-7
四氯硅烷
+
446065-11-8
环己基三氟硼酸钾
→
反应条件
14049-36-6
氯三氟硅烷
反应条件
in tetrahydrofuran at 20-25°C (according to Bull. Chem. Soc. Jpn 1971, 44, 2555-2556);
参考文献
Angewandte Chemie - International Edition, , vol. 43, # 23 p. 3056 - 3058
10026-04-7
四氯硅烷
+
75-05-8
乙腈
+
446065-11-8
环己基三氟硼酸钾
→
反应条件
14049-36-6
氯三氟硅烷
反应条件
in acetonitrile at 20-25°C (according to Bull. Chem. Soc. Jpn 1971, 44, 2555-2556);
参考文献
Angewandte Chemie - International Edition, , vol. 43, # 23 p. 3056 - 3058
10026-04-7
四氯硅烷
→
反应条件
7783-61-1
四氟化硅
反应条件
in neat (no solvent) byproducts: NaCl;
参考文献
Rec. Trav. chim., , vol. 23, p. 380 - 383
Si: MVol.B, 242, page 657 - 659
→
反应条件
7783-61-1
四氟化硅
反应条件
in neat (no solvent) byproducts: NaCl; heating of Na2SiF6 in SiCl4 vapor;;
参考文献
Rec. Trav. chim., , vol. 23, p. 380 - 383
10026-04-7
四氯硅烷
+
7784-35-2
三氟化砷
→
反应条件
7784-34-1
三氯化砷
+
7783-61-1
四氟化硅
反应条件
in neat (no solvent) byproducts: AsCl3; vigorous reaction by dropwise addition of AsF3 to SiCl4;;
参考文献
Ann. Chim. Phys., , vol. 19, p. 280 - 286
10026-04-7
四氯硅烷
+
7784-35-2
三氟化砷
→
反应条件
7783-61-1
四氟化硅
反应条件
in neat (no solvent) dropwise addition of AsF3 to SiCl4 in a glass vessel;;
参考文献
Ann. Chim. Phys., , vol. 19, p. 280 - 288
Si: MVol.B, 224, page 614 - 617
10026-04-7
四氯硅烷
+
7782-41-4
→
反应条件
7783-61-1
四氟化硅
反应条件
in neat (no solvent) reaction with a weakly shining flame;;
参考文献
Ann. Chim. Phys., , vol. 24, p. 224 - 282
Si: MVol.B, 224, page 614 - 617
10026-04-7
四氯硅烷
+
7783-81-5
→
反应条件
10049-14-6
+
7783-61-1
四氟化硅
反应条件
byproducts: Cl2; room temp., then at 100°C;
参考文献
Inorganic Chemistry, , vol. 5, p. 1438 - 1441
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