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471-34-1
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三甲基硅醇
合成路线
（共 185 条）
86573-86-6
→
反应条件
1066-40-6
三甲基硅醇
+
86573-94-6
+
86573-90-2
反应条件
in tetrahydrofuran 0.25 h; Heating; Yield given. Yields of byproduct given;
参考文献
Chemistry Letters, , p. 549 - 552
86573-87-7
→
反应条件
1066-40-6
三甲基硅醇
+
86573-91-3
+
86573-95-7
反应条件
in tetrahydrofuran 0.216667 h; Heating; Yield given. Yields of byproduct given;
参考文献
Chemistry Letters, , p. 549 - 552
86573-89-9
→
反应条件
1066-40-6
三甲基硅醇
+
70769-75-4
+
86573-93-5
反应条件
in diethyl ether 0.783333 h; Heating; Yield given. Yields of byproduct given;
参考文献
Chemistry Letters, , p. 549 - 552
17881-80-0
+
1749-19-5
苯基-(1-苯亚乙基)胺
→
反应条件
1066-40-6
三甲基硅醇
+
70525-38-1
+
70525-39-2
+
74497-02-2
反应条件
ammonium chloride; lithium diisopropyl amide 1.) THF, -75 deg C 2.) -75 deg C, 1 h and room temp. 2 h; Yield given. Multistep reaction. Yields of byproduct given;
参考文献
Tetrahedron Letters, , vol. 21, p. 2073 - 2076
17881-80-0
+
622-29-7
苯亚甲基甲胺
→
反应条件
538-49-8
+
1066-40-6
三甲基硅醇
+
74-89-5
甲胺
反应条件
ammonium chloride; lithium diisopropyl amide 1.) THF, -75 deg C 2.) -75 deg C, 1 h and room temp. 2 h; Yield given. Multistep reaction. Yields of byproduct given;
参考文献
Tetrahedron Letters, , vol. 21, p. 2073 - 2076
17881-80-0
+
1750-36-3
→
反应条件
538-49-8
+
1066-40-6
三甲基硅醇
+
74497-02-2
反应条件
ammonium chloride; lithium diisopropyl amide 1.) THF, -75 deg C 2.) -75 deg C, 1 h and room temp. 2 h; Yield given. Multistep reaction. Yields of byproduct given;
参考文献
Tetrahedron Letters, , vol. 21, p. 2073 - 2076
200882-03-7
→
反应条件
1066-40-6
三甲基硅醇
+
1450-14-2
六甲基二硅烷
反应条件
water; triethylamine
参考文献
Chemistry of Heterocyclic Compounds, , vol. 33, # 4 p. 426 - 428
1493-13-6
三氟甲磺酸
+
1000-70-0
二(三甲基硅基)碳酰二亚胺
→
反应条件
1066-40-6
三甲基硅醇
+
28981-65-9
反应条件
in dichloromethane Cooling;
参考文献
Russian Journal of General Chemistry, , vol. 83, # 10 p. 1853 - 1858
Zh. Obshch. Khim., , vol. 83, # 10 p. 1643 - 1648,6
89566-56-3
→
反应条件
1066-40-6
三甲基硅醇
反应条件
hydrogenchloride T=20°C; other silylurethanes, other reagents (var. pH), var. temp.; Mechanism;
参考文献
Journal of Organometallic Chemistry, , vol. 262, # 2 p. 143 - 150
107-51-7
→
反应条件
1066-40-6
三甲基硅醇
+
541-05-9
+
556-67-2
+
5272-21-9
+
85461-52-5
反应条件
nitrous acid methyl ester; nitrogen(II) oxide T=23.9°C; P=760 Torr; Irradiationgeneration of OH radicals; reactions of siloxanes with hydroxyl radicals; siloxane atmospheric reactions; proposed reaction mechanism; products formation pathways; Rate constantProduct distribution;
参考文献
International Journal of Chemical Kinetics, , vol. 29, # 6 p. 445 - 451
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