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丙基三甲氧基硅烷
合成路线
（共 6 条）
3775-28-8
+
2487-90-3
三甲氧基硅烷
→
反应条件
1067-25-0
丙基三甲氧基硅烷
反应条件
chloroplatinic acid in isopropyl alcohol
参考文献
Toshiba Silicone Co., Ltd.
Patent: US5113000 A1, 1992 ;
2487-90-3
三甲氧基硅烷
+
107-05-1
氯丙烯
→
反应条件
反应条件
toluene; ruthenium trichloride in methanol T=20 - 83°C; 2 h; Product distribution / selectivity;
参考文献
WO2005/118598 A1, ;
Page/Page column 12 ;
2487-90-3
三甲氧基硅烷
+
107-05-1
氯丙烯
→
反应条件
253586-30-0
+
4668-00-2
三甲氧基氯硅烷
+
681-84-5
正硅酸甲酯
+
540-54-5
氯丙烷
+
1067-25-0
丙基三甲氧基硅烷
+
2530-87-2
3-氯丙基三甲氧基硅烷
反应条件
toluene; ruthenium trichloride in methanol T=20 - 83°C; 2 h; Product distribution / selectivity;
参考文献
WO2005/118598 A1, ;
Page/Page column 11-12; 18 ;
1438-82-0
五甲基二硅氧烷
→
反应条件
1067-25-0
丙基三甲氧基硅烷
+
1254985-33-5
反应条件
tris(pentafluorophenyl)-borane in hexane; toluene T=20°C;
参考文献
Dalton Transactions, , vol. 39, # 39 p. 9369 - 9378
1438-82-0
五甲基二硅氧烷
→
反应条件
反应条件
tris(pentafluorophenyl)-borane in hexane; toluene T=20°C; 0.0833333 h;
参考文献
Dalton Transactions, , vol. 39, # 39 p. 9369 - 9378
1067-25-0
丙基三甲氧基硅烷
→
反应条件
14684-31-2
反应条件
anilinium hypophosphorous salt in acetonitrile 3 h; Heating;
参考文献
Deprele, Sylvine; Montchamp, Jean-Luc
Journal of Organometalic Chemistry, 2002 , vol. 643-644, p. 154 - 163
