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2-三甲基甲硅烷基噁唑
合成路线
（共 2 条）
288-42-6
恶唑
+
109-72-8
正丁基锂
→
反应条件
120629-79-0
2-三甲基甲硅烷基噁唑
反应条件
chloro-trimethyl-silane in hexane
参考文献
ICI Americas Inc.
Patent: US5164371 A1, 1992 ;
130551-93-8
→
反应条件
120629-79-0
2-三甲基甲硅烷基噁唑
反应条件
potassium hydroxide Heating;
参考文献
Hodges, John C.; Patt, William C.; Connolly, Cleo J.
Journal of Organic Chemistry, 1991 , vol. 56, # 1 p. 449 - 452
