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兰地洛尔
合成路线
（共 8 条）
→
反应条件
133242-30-5
兰地洛尔
反应条件
sodium hydroxide in isopropyl alcohol T=30 - 40°C; pH=10 - 11;
参考文献
EP2687521 A1, ;
Paragraph 0043; 0044 ;
1398109-46-0
+
154467-16-0
N-(2-氨基乙基)-4-吗啉甲酰胺草酸盐
→
反应条件
133242-30-5
兰地洛尔
反应条件
1: (S)-(2,2-dimethyl-1,3-dioxolan-4-yl)methyl 3-(4-((2R)-3-chloro-2-hydroxypropoxy)phenyl)propanoate With potassium carbonate; potassium iodide in acetonitrile 2 h; Reflux; 2: 2-(morpholine-4-carboxamido)ethanamino oxalate in acetonitrile Reflux;
参考文献
EP2687521 A1, ;
Paragraph 0045; 0046; 0047; 0048; 0049; 0050 ;
69630-16-6
+
144256-12-2
→
反应条件
133242-30-5
兰地洛尔
反应条件
in isopropyl alcohol 15 h; Ambient temperature;
参考文献
Chemical and Pharmaceutical Bulletin, , vol. 40, # 6 p. 1462 - 1469
144256-11-1
(S)-(2,2-二甲基-1,3-二氧环戊烷-4-基)甲基 3-(4-羟基苯基)丙酸酯
→
反应条件
133242-30-5
兰地洛尔
反应条件
1: 80 percent / K2CO3 / dimethylformamide / 15 h / 70 °C 2: 68 percent / propan-2-ol / 15 h / Ambient temperature View Scheme
参考文献
Chemical and Pharmaceutical Bulletin, , vol. 40, # 6 p. 1462 - 1469
501-97-3
对羟基苯丙酸
→
反应条件
133242-30-5
兰地洛尔
反应条件
1: 98 percent / KOH / dimethylsulfoxide / 1 h / 100 °C 2: 80 percent / K2CO3 / dimethylformamide / 15 h / 70 °C 3: 68 percent / propan-2-ol / 15 h / Ambient temperature View Scheme
参考文献
Chemical and Pharmaceutical Bulletin, , vol. 40, # 6 p. 1462 - 1469
23735-43-5
对甲苯磺酸(S)-(-)-2,2-二甲基-1,3-二氧戊环基-4-基甲基酯
→
反应条件
133242-30-5
兰地洛尔
反应条件
1: 98 percent / KOH / dimethylsulfoxide / 1 h / 100 °C 2: 80 percent / K2CO3 / dimethylformamide / 15 h / 70 °C 3: 68 percent / propan-2-ol / 15 h / Ambient temperature View Scheme
参考文献
Chemical and Pharmaceutical Bulletin, , vol. 40, # 6 p. 1462 - 1469
93605-74-4
→
反应条件
133242-30-5
兰地洛尔
反应条件
1: CHCl3 / 15 h / Ambient temperature 2: 68 percent / propan-2-ol / 15 h / Ambient temperature View Scheme
参考文献
Chemical and Pharmaceutical Bulletin, , vol. 40, # 6 p. 1462 - 1469
133242-30-5
兰地洛尔
→
反应条件
144481-98-1
反应条件
hydrogenchloride in isopropyl alcohol
参考文献
Procos S.p.A.; Garavaglia, Fabio; Roletto, Jacopo; Paissoni, Paolo
Patent: EP2687521 A1, 2014 ;
Location in patent: Paragraph 0051; 0052 ;
