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13776-62-0
合成路线
（共 5 条）
13776-62-0
→
反应条件
353-50-4
氟光气
+
359-40-0
草酰氟
+
1871-24-5
反应条件
carbon monoxide in gaseous matrix photolysis, 4-20 K, Hg-lamp, in Ar-matrix;
参考文献
Milligan et al.
Journal of Chemical Physics, 1965 , vol. 42, p. 3187
13776-62-0
→
反应条件
7783-54-2
三氟化氮
+
7727-37-9
氮气
+
7782-41-4
氟
反应条件
in neat (no solvent) (vac.); heating N2F2 at 55°C;
参考文献
Christe, Karl O.; Dixon, David A.; Grant, Daniel J.; Haiges, Ralf; Tham, Fook S.; Vij, Ashwani; Vij, Vandana; Wang, Tsang-Hsiu; Wilson, William W.
Inorganic Chemistry, 2010 , vol. 49, # 15 p. 6823 - 6833
13776-62-0
+
1495-50-7
乙二腈氟化物
→
反应条件
75-73-0
四氟甲烷
+
338-66-9
+
335-01-3
N,N,1,1,1-五氟甲胺
+
7727-37-9
氮气
反应条件
14 K, in N2 or Ar, by Hg lamp photolysis UV/VIS irradn.;
参考文献
Jacox; Milligan
Journal of Chemical Physics, 1968 , vol. 48, p. 4040
13776-62-0
→
反应条件
7783-54-2
三氟化氮
+
7727-37-9
氮气
+
7782-41-4
氟
反应条件
in neat (no solvent) (vac.); heating N2F2 at 55°C;
参考文献
Christe, Karl O.; Dixon, David A.; Grant, Daniel J.; Haiges, Ralf; Tham, Fook S.; Vij, Ashwani; Vij, Vandana; Wang, Tsang-Hsiu; Wilson, William W.
Inorganic Chemistry, 2010 , vol. 49, # 15 p. 6823 - 6833
13776-62-0
+
1495-50-7
乙二腈氟化物
→
反应条件
75-73-0
四氟甲烷
+
338-66-9
+
335-01-3
N,N,1,1,1-五氟甲胺
+
7727-37-9
氮气
反应条件
14 K, in N2 or Ar, by Hg lamp photolysis UV/VIS irradn.;
参考文献
Jacox; Milligan
Journal of Chemical Physics, 1968 , vol. 48, p. 4040
