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硫酸盐离子
合成路线
(共 11 条)
7783-82-6
六氟化钨
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
11128-24-8
+
13966-66-0
+
14835-14-4
硫酸盐离子
+
7783-61-1
四氟化硅
+
7440-33-7
钨
反应条件
Kinetics; Si exposed to WF6 (0.1-1500 L, 300 K) with/without UV radiation (deuterium lamp, 0-90 min), thermal desorption of SiF(x) species (77-1500 K); MS;
参考文献
Jackman, R. B.; Foord, J. S.
Surface Science, 1988 , vol. 201, p. 47 - 58
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