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二甲基亚砜
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甲砜霉素
合成路线
（共 34 条）
701935-64-0
→
反应条件
15318-45-3
甲砜霉素
反应条件
1.1: 95 percent / oxone / tetrahydrofuran; methanol; H2O / 0 - 25 °C 2.1: 43 percent / Ti(O-iPr)4; (+)-diisopropyl tartrate; tert-butyl hydroperoxide / molecular sieves 4 Angstroem / CH2Cl2 / 24 h / -20 °C 3.1: CH2Cl2 / 2 h / 0 - 25 °C 3.2: 86 percent / potassium carbonate / methanol; H2O / 18 h / 0 - 25 °C 4.1: 65 percent / sodium hydroxide; tert-butyl hypochlorite; potassium osmate / ethyldiisopropylamine / propan-1-ol; H2O / 3 h / 25 °C 5.1: NaOH / methanol; H2O / 25 °C 5.2: 77 percent / 3 h / 90 °C View Scheme
参考文献
Tetrahedron, , vol. 62, # 43 p. 10202 - 10207
701935-65-1
→
反应条件
15318-45-3
甲砜霉素
反应条件
1.1: 43 percent / Ti(O-iPr)4; (+)-diisopropyl tartrate; tert-butyl hydroperoxide / molecular sieves 4 Angstroem / CH2Cl2 / 24 h / -20 °C 2.1: CH2Cl2 / 2 h / 0 - 25 °C 2.2: 86 percent / potassium carbonate / methanol; H2O / 18 h / 0 - 25 °C 3.1: 65 percent / sodium hydroxide; tert-butyl hypochlorite; potassium osmate / ethyldiisopropylamine / propan-1-ol; H2O / 3 h / 25 °C 4.1: NaOH / methanol; H2O / 25 °C 4.2: 77 percent / 3 h / 90 °C View Scheme
参考文献
Tetrahedron, , vol. 62, # 43 p. 10202 - 10207
914646-16-5
→
反应条件
15318-45-3
甲砜霉素
反应条件
1.1: CH2Cl2 / 2 h / 0 - 25 °C 1.2: 86 percent / potassium carbonate / methanol; H2O / 18 h / 0 - 25 °C 2.1: 65 percent / sodium hydroxide; tert-butyl hypochlorite; potassium osmate / ethyldiisopropylamine / propan-1-ol; H2O / 3 h / 25 °C 3.1: NaOH / methanol; H2O / 25 °C 3.2: 77 percent / 3 h / 90 °C View Scheme
参考文献
Tetrahedron, , vol. 62, # 43 p. 10202 - 10207
14172-52-2
→
反应条件
15318-45-3
甲砜霉素
反应条件
1: Lg-tartaric acid 3: peroxyacetic acid View Scheme
参考文献
Journal of the American Chemical Society, , vol. 74, p. 5475,5478
23150-33-6
→
反应条件
15318-45-3
甲砜霉素
反应条件
1: aqueous HCl 2: Lg-tartaric acid 4: peroxyacetic acid View Scheme
参考文献
Journal of the American Chemical Society, , vol. 74, p. 5475,5478
38423-42-6
→
反应条件
15318-45-3
甲砜霉素
反应条件
1: aluminium isopropylate; isopropyl alcohol 2: aqueous HCl 3: Lg-tartaric acid 5: peroxyacetic acid View Scheme
参考文献
Journal of the American Chemical Society, , vol. 74, p. 5475,5478
160751-27-9
→
反应条件
15318-45-3
甲砜霉素
反应条件
1: 93 percent / H2O, TsOH 2: 94 percent / Et3N 3: 88 percent / m-CPBA View Scheme
参考文献
Phosphorus, Sulfur and Silicon and Related Elements, , vol. 120-121, p. 291 - 303
160751-26-8
→
反应条件
15318-45-3
甲砜霉素
反应条件
1: 87 percent / LiAlH4 2: 93 percent / H2O, TsOH 3: 94 percent / Et3N 4: 88 percent / m-CPBA View Scheme
参考文献
Phosphorus, Sulfur and Silicon and Related Elements, , vol. 120-121, p. 291 - 303
912296-97-0
→
反应条件
15318-45-3
甲砜霉素
反应条件
1: 85 percent / 1 h / 90 °C 2: 84 percent / BBr3 / CH2Cl2 / 10 h / -78 - -20 °C View Scheme
参考文献
Tetrahedron, , vol. 62, # 38 p. 8959 - 8965
160751-25-7
→
反应条件
15318-45-3
甲砜霉素
反应条件
1: 60 percent / tetrahydrofuran / -78 °C 2: 87 percent / LiAlH4 / diethyl ether / 1 h / 0 deg C to r.t. 3: 93 percent / p-toluenesulfonic acid / H2O; tetrahydrofuran / 0.5 h / Ambient temperature 4: 94 percent / triethylamine 5: 88 percent / m-chloroperbenzoic acid / tetrahydrofuran View Scheme
参考文献
Tetrahedron Letters, , vol. 35, # 41 p. 7525 - 7528
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