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合成路线
（共 1 条）
5518-25-2
+
1066-54-2
三甲基乙炔基硅
→
反应条件
157489-80-0
+
157489-81-1
反应条件
in neat (no solvent) byproducts: Et3B; Ar; equimolar amounts; Et2BH added slowly; temp. raised to 32°C; stirred at room temp. for 3 h;; distd.; elem. anal.;;
参考文献
Koester, Roland; Seidel, Guenter; Lutz, Frank; Krueger, Carl; Kehr, Gerald; Wrackmeyer, Bernd
Chemische Berichte, 1994 , vol. 127, # 5 p. 813 - 820
