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1-戊烯-3-酮
合成路线
（共 184 条）
557773-95-2
→
反应条件
1629-58-9
1-戊烯-3-酮
+
536-74-3
苯乙炔
反应条件
T=650°C; P=0.01 - 0.1 Torr; 2 h;
参考文献
European Journal of Organic Chemistry, , # 5 p. 840 - 847
32830-97-0
1-氯-3-戊酮
→
反应条件
1629-58-9
1-戊烯-3-酮
反应条件
anhydrous sodium benzoate; hydroquinone
参考文献
Journal of Organic Chemistry, , vol. 22, p. 92
96-22-0
二乙基酮
→
反应条件
17042-21-6
2-氯-3-戊酮
+
32830-97-0
1-氯-3-戊酮
+
1629-58-9
1-戊烯-3-酮
+
79-03-8
丙酰氯
+
75-07-0
乙醛
反应条件
oxygen; chlorine T=236.84°C; P=700 - 950 Torr; UV-irradiation;
参考文献
Journal of Physical Chemistry A, , vol. 114, # 1 p. 343 - 354
4362-57-6
2,2-二乙基-1,3-二氧戊环
→
反应条件
1629-58-9
1-戊烯-3-酮
反应条件
1: Br2 / hexane / 35 - 40 °C 2: 86 percent / KOH / methanol; dimethylsulfoxide / 80 °C 3: 86 percent / p-toluenesulfonic acid, H2O / 3 h / 15 °C View Scheme
参考文献
Synthesis, , # 10 p. 870 - 871
22515-81-7
2-(1-溴乙基)-2-乙基-1,3-二氧戊环
→
反应条件
1629-58-9
1-戊烯-3-酮
反应条件
1: 86 percent / KOH / methanol; dimethylsulfoxide / 80 °C 2: 86 percent / p-toluenesulfonic acid, H2O / 3 h / 15 °C View Scheme
参考文献
Synthesis, , # 10 p. 870 - 871
96-22-0
二乙基酮
→
反应条件
1629-58-9
1-戊烯-3-酮
反应条件
1: p-toluenesulfonic acid / hexane / 7 h / Heating 2: Br2 / hexane / 35 - 40 °C 3: 86 percent / KOH / methanol; dimethylsulfoxide / 80 °C 4: 86 percent / p-toluenesulfonic acid, H2O / 3 h / 15 °C View Scheme
参考文献
Synthesis, , # 10 p. 870 - 871
5371-48-2
→
反应条件
1629-58-9
1-戊烯-3-酮
反应条件
magnesium sulfate T=340 - 360°C;
参考文献
Comptes Rendus Hebdomadaires des Seances de l'Academie des Sciences, , vol. 177, p. 693
Annales de Chimie (Cachan, France), , vol. <9>20, p. 226
109-67-1
正戊烯
→
反应条件
1629-58-9
1-戊烯-3-酮
反应条件
air T=175 - 450°C; in Gegenwart von Metallseleniten oder - telluriten;
参考文献
US2383711 , ;
3536-96-7
乙烯基氯化镁
+
123-62-6
丙酸酐
→
反应条件
1629-58-9
1-戊烯-3-酮
反应条件
tetrahydrofuran T=-65°C;
参考文献
Annales de Chimie (Cachan, France), , vol. <13>1, p. 541,561
108643-99-8
→
反应条件
1629-58-9
1-戊烯-3-酮
反应条件
3-chloro-benzenecarboperoxoic acid; p-benozquinone 1.) CH2Cl2, -78 deg C --> r.t., 30 min, 2.) 50 deg C, 20 mbar; Yield given. Multistep reaction;
参考文献
Synthesis, , # 3 p. 210 - 214
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