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3-甲氧基噻吩
合成路线
（共 24 条）
17573-92-1
3-甲氧基噻吩
+
109-72-8
正丁基锂
→
反应条件
35134-07-7
3-甲氧基噻吩-2-甲醛
反应条件
1: in diethyl ether 1.08333 h; Heating / reflux; 2: With hydrogenchloride; water in diethyl ether; N,N-dimethyl-formamide T=0 - 20°C; 14 h;
参考文献
F. HOFFMANN-LA ROCHE AG
Patent: EP1149092 B1, 2003 ;
Location in patent: Page/Page column 32 ;
17573-92-1
3-甲氧基噻吩
→
反应条件
35134-07-7
3-甲氧基噻吩-2-甲醛
反应条件
n-butyllithium in hexane; N,N-dimethyl-formamide
参考文献
Toray Industries Inc.
Patent: US6184245 B2, 2001 ;
17573-92-1
3-甲氧基噻吩
+
68-12-2
N,N-二甲基甲酰胺
→
反应条件
35134-07-7
3-甲氧基噻吩-2-甲醛
+
98316-32-6
反应条件
1: 3-Methoxythiophene With n-butyllithium in tetrahydrofuran T=-78°C; 1 h; 2: N,N-dimethyl-formamide in tetrahydrofuran T=20°C; 1 h;
参考文献
Jeong, Yong-Chul; Ahn, Dae-Jun; Lee, Woo-Sun; Lee, Seung-Han; Ahn, Kwang-Hyun
Bulletin of the Korean Chemical Society, 2011 , vol. 32, # 3 p. 1063 - 1066
17573-92-1
3-甲氧基噻吩
→
反应条件
184039-62-1
反应条件
chlorosulfonic acid in dichloromethane T=-78 - 20°C;
参考文献
Chao, Jianhua; Taveras, Arthur G.; Aki, Cynthia J.
Tetrahedron Letters, 2009 , vol. 50, # 35 p. 5005 - 5008
17573-92-1
3-甲氧基噻吩
+
7790-94-5
氯磺酸
→
反应条件
184039-62-1
反应条件
in dichloromethane T=-78 - 20°C; 2.75 h;
参考文献
Schering Corporation
Patent: US2004/106794 A1, 2004 ;
Location in patent: Page 98-99 ;
US 20040106794 A1
17573-92-1
3-甲氧基噻吩
+
762-42-5
丁炔二酸二甲酯
→
反应条件
22895-19-8
4-甲氧基二甲基邻苯二甲酯
反应条件
in xylene 48 h; Heating;
参考文献
Corral; Lissavetzky; Manzanares
Synthesis, 1997 , # 1 p. 29 - 31
17573-92-1
3-甲氧基噻吩
+
109-72-8
正丁基锂
→
反应条件
77133-27-8
+
60166-83-8
3-甲氧基-2-噻吩羧酸
反应条件
in tetrahydrofuran; diethyl ether; hexane; carbon dioxide
参考文献
Takeda Chemical Industries, Ltd.
Patent: US5840917 A1, 1998 ;
17573-92-1
3-甲氧基噻吩
→
反应条件
60166-83-8
3-甲氧基-2-噻吩羧酸
反应条件
n-butyllithium; diethyl ether anschliessend Behandeln mit festem Kohlendioxid;
参考文献
Gronowitz
Arkiv foer Kemi, 1958 , vol. 12, p. 239,243
17573-92-1
3-甲氧基噻吩
+
194720-38-2
→
反应条件
527-17-3
杜醌
+
882-33-7
二苯二硫醚
反应条件
trimethylsilyl trifluoromethanesulfonate in acetonitrile T=0 - 20°C; 0.166667 h;
参考文献
Matsugi; Murata; Gotanda; Nambu; Anilkumar; Matsumoto; Kita
Journal of Organic Chemistry, 2001 , vol. 66, # 7 p. 2434 - 2441
17573-92-1
3-甲氧基噻吩
+
112-53-8
月桂醇
→
反应条件
120621-18-3
反应条件
toluene-4-sulfonic acid in toluene T=130°C; 15 h; Inert atmosphere;
参考文献
Organic Letters, , vol. 10, # 23 p. 5333 - 5336
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