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18036-81-2
合成路线
（共 16 条）
18036-81-2
→
反应条件
98-67-9
4-羟基苯磺酸
反应条件
1: 85 percent / 15 h / Ambient temperature 2: H2O View Scheme
参考文献
Babin, P.; Bennetau, B.; Bourgeois, P.; Rajarison, F.; Dunogues, J.
Bulletin de la Societe Chimique de France, 1992 , # 1 p. 25 - 28
18036-81-2
→
反应条件
13132-25-7
4-(三甲硅基)苯酚
反应条件
hydrogenchloride
参考文献
Tacke
Archiv der Pharmazie, 1980 , vol. 313, # 2 p. 142 - 155
18036-81-2
→
反应条件
111731-00-1
反应条件
1: aq. HCl 2: 100 percent / NaH / dimethylformamide / 85 °C 3: 82 percent / 240 - 280 °C 4: 71 percent / LiAlH4 5: 91 percent / Et3N / petroleum ether / 48 h / 50 °C 6: 85 percent / TFA / 2.5 h / 0 °C View Scheme
参考文献
Nishide, Kiyoharu; Miyamoto, Tetsuo; Kumar, Kamal; Ohsugi, Shin-Ichi; Node, Manabu
Tetrahedron Letters, 2002 , vol. 43, # 47 p. 8569 - 8573
18036-81-2
→
反应条件
13871-89-1
三甲基(环己基氧基)硅烷
反应条件
hydrogen; nickel in 2,2,4-trimethylpentane (CH3)3SiOC6H4Si(CH3)3, H2 and Raney-Ni in isooctane at about 100°C;;
参考文献
Gmelin Handbook: Si: MVol.C, 80, page 222 - 225
Full Text Show Details
Dow Corning Corp.
Patent: US2628244 , 1953 ;
C. A., 1953 , p. 5720
18036-81-2
→
反应条件
30134-12-4
苯基 3-苯基丙基硫醚
反应条件
1: aq. HCl 2: 100 percent / NaH / dimethylformamide / 85 °C 3: 82 percent / 240 - 280 °C 4: 71 percent / LiAlH4 5: 94 percent / Et3N / tetrahydrofuran / 20 °C 6: 90 percent / TFA / CH2Cl2 / 2 h / 0 °C View Scheme
参考文献
Nishide, Kiyoharu; Miyamoto, Tetsuo; Kumar, Kamal; Ohsugi, Shin-Ichi; Node, Manabu
Tetrahedron Letters, 2002 , vol. 43, # 47 p. 8569 - 8573
18036-81-2
→
反应条件
60805-64-3
3-(苯硫基)丙酸乙酯
反应条件
1: aq. HCl 2: 100 percent / NaH / dimethylformamide / 85 °C 3: 82 percent / 240 - 280 °C 4: 71 percent / LiAlH4 5: 100 percent / Et3N / petroleum ether / 60 h / 0 - 20 °C 6: 100 percent / TFA / 2.5 h / 0 °C View Scheme
参考文献
Nishide, Kiyoharu; Miyamoto, Tetsuo; Kumar, Kamal; Ohsugi, Shin-Ichi; Node, Manabu
Tetrahedron Letters, 2002 , vol. 43, # 47 p. 8569 - 8573
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