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4-三乙氧硅基联苯
合成路线
（共 7 条）
78-10-4
硅酸四乙酯
+
3315-91-1
4-二苯基溴化镁
→
反应条件
18056-97-8
4-三乙氧硅基联苯
反应条件
in tetrahydrofuran T=-30 - 23°C; 13.1667 h;
参考文献
Tang, Pingping; Ritter, Tobias
Tetrahedron, 2011 , vol. 67, # 24 p. 4449 - 4454
998-30-1
三乙氧基硅烷
+
2350-89-2
4-乙烯基联苯
→
反应条件
反应条件
platinum; cyclohexanecarboxylic acid in toluene
参考文献
Dow Corning Asia, Ltd.
Patent: US6048994 A1, 2000 ;
78-10-4
硅酸四乙酯
+
92-86-4
4,4-二溴联苯
→
反应条件
18056-97-8
4-三乙氧硅基联苯
反应条件
lithium in diethyl ether
参考文献
Gmelin Handbook: Si: MVol.C, 78, page 217 - 218
78-10-4
硅酸四乙酯
+
92-66-0
4-溴代联苯
→
反应条件
18056-97-8
4-三乙氧硅基联苯
反应条件
diethyl ether; lithium
参考文献
Corning Glass Works
Patent: US2386452 , 1942 ;
18056-97-8
4-三乙氧硅基联苯
+
68-12-2
N,N-二甲基甲酰胺
→
反应条件
2920-38-9
4-氰基联苯
反应条件
NH4I; potassium fluoride; Cu(NO3)2*3H2O; oxygen T=140°C; 25 h; Schlenk technique;
参考文献
Wang, Zhen; Chang, Sukbok
Organic Letters, 2013 , vol. 15, # 8 p. 1990 - 1993
18056-97-8
4-三乙氧硅基联苯
→
反应条件
324-74-3
4-氟联苯
反应条件
1-(chloromethyl)-4-fluoro-1,4-diazoniabicyclo-[2.2.2]octane bis(tetrafluoroborate); BaO; silver(l) oxide in acetone T=23 - 90°C; 2 h; regioselective reaction;
参考文献
Tetrahedron, , vol. 67, # 24 p. 4449 - 4454
18056-97-8
4-三乙氧硅基联苯
→
反应条件
92-52-4
联苯
+
324-74-3
4-氟联苯
反应条件
1-(chloromethyl)-4-fluoro-1,4-diazoniabicyclo-[2.2.2]octane bis(tetrafluoroborate) in acetone T=90°C; 2 h;
参考文献
Tetrahedron, , vol. 67, # 24 p. 4449 - 4454
