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192053-32-0
合成路线
（共 2 条）
192053-32-0
→
反应条件
138540-89-3
+
100103-39-7
反应条件
in not given Irradiation (UV/VIS); daylight for weeks, under dry Ar or N2;
参考文献
Wiberg, Nils; Blank, Thomas; Amelunxen, Kerstin; Noeth, Heinrich; Schnoeckel, Hansgeorg; et al.
European Journal of Inorganic Chemistry, 2002 , p. 341 - 350
→
反应条件
反应条件
in further solvent(s) byproducts: (t-Bu)3SiH; under dry Ar or N2, C6D12 as solvent, 60 °C over 12 h; crystals were isolated at 5 °C, elem. anal.;
参考文献
Wiberg, Nils; Blank, Thomas; Amelunxen, Kerstin; Noeth, Heinrich; Schnoeckel, Hansgeorg; et al.
European Journal of Inorganic Chemistry, 2002 , p. 341 - 350
