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酞菁二氯化硅
合成路线
（共 12 条）
995-45-9
三-n-丁基氯硅烷
+
3634-67-1
氯三己基硅烷
+
19333-10-9
酞菁二氯化硅
→
反应条件
134609-15-7
+
1071810-10-0
+
92396-89-9
硅(IV)酞菁二(三己基甲硅烷基氧化物)
反应条件
sodium hydroxide; Aliquat.(R). HTA-1 in water; chlorobenzene T=20°C; Reflux;
参考文献
BASF SE
Patent: US2010/113767 A1, 2010 ;
Location in patent: Page/Page column 12 ;
3634-67-1
氯三己基硅烷
+
76-86-8
三苯基氯硅烷
+
19333-10-9
酞菁二氯化硅
→
反应条件
19333-11-0
+
1071810-11-1
+
92396-89-9
硅(IV)酞菁二(三己基甲硅烷基氧化物)
反应条件
1: tri-n-hexylsilyl chloride; triphenyl-silyl chloride With sodium hydroxide; Aliquat.(R). HTA-1 in chlorobenzene T=20°C; 1 h; 2: (Cl)2Si(phthalocyanine) in chlorobenzene T=132°C; 6 h;
参考文献
BASF SE
Patent: US2010/113767 A1, 2010 ;
Location in patent: Page/Page column 13 ;
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