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合成路线
(共 1 条)
222713-56-6
→
反应条件
243-51-6
反应条件
1: 47 percent / Et3SiH, TFA / CH2Cl2 / 24 h / Ambient temperature 2: 8 percent / Me3SnSnMe3 / benzene / 85 °C / Irradiation View Scheme
参考文献
Curran, Dennis P.; Liu, Hui; Josien, Hubert; Ko, Sung-Bo
Tetrahedron, 1996 , vol. 52, # 35 p. 11385 - 11404