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2-氯-5-氟苯甲酸
合成路线
（共 9 条）
2516-96-3
2-氯-5-硝基苯甲酸
→
反应条件
2252-50-8
2-氯-5-氟苯甲酸
反应条件
1: H2 / Pd-C / acetic acid 2: aq. NaNO2, HBF4 View Scheme
参考文献
Journal of Organic Chemistry, , vol. 26, p. 919 - 923
118-91-2
2-氯苯甲酸
→
反应条件
2252-50-8
2-氯-5-氟苯甲酸
反应条件
1: HNO3, H2SO4 2: H2 / Pd-C / acetic acid 3: aq. NaNO2, HBF4 View Scheme
参考文献
Journal of Organic Chemistry, , vol. 26, p. 919 - 923
89-54-3
5-氨基-2-氯苯甲酸
→
反应条件
2252-50-8
2-氯-5-氟苯甲酸
反应条件
tetrafluoroboric acid; sodium nitrite
参考文献
Journal of Organic Chemistry, , vol. 26, p. 919 - 923
124-38-9
二氧化碳
+
352-33-0
1-氯-4-氟苯
→
反应条件
394-30-9
5-氯-2-氟苯甲酸
+
2252-50-8
2-氯-5-氟苯甲酸
反应条件
lithium diisopropyl amide 1.) cyclohexane, THF, -78 deg C, 30 min, 2.) -78 to 0 deg C; Yield given. Multistep reaction. Yields of byproduct given. Title compound not separated from byproducts;
参考文献
Tetrahedron Letters, , vol. 33, # 49 p. 7495 - 7498
2252-50-8
2-氯-5-氟苯甲酸
→
反应条件
21900-51-6
2-氯-5-氟苯甲酰氯
反应条件
thionyl chloride
参考文献
COSTANZO, MICHAEL J.; McComsey, David F.; Yabut, Stephen C.; Zhang, Han-Cheng
Patent: US2008/306044 A1, 2008 ;
Location in patent: Page/Page column 40-41 ;
US 20080306044 A1
2252-50-8
2-氯-5-氟苯甲酸
→
反应条件
81778-09-8
2-氯-5-氟溴苄
反应条件
1: sulfuric acid / 24 h / Reflux 2: sodium tetrahydroborate; methanol / 1 h / 20 °C 3: phosphorus tribromide / ethylene glycol dimethyl ether / 3 h / 0 - 20 °C View Scheme
参考文献
Wang, Weibo; Li, Tongshuang
Patent: US2011/160212 A1, 2011 ;
2252-50-8
2-氯-5-氟苯甲酸
→
反应条件
84194-30-9
2-氯-5-氟苯甲醛
反应条件
1.1: borane-THF / tetrahydrofuran / 0 °C / Reflux 1.2: Cooling with ice 2.1: oxalyl dichloride; dimethyl sulfoxide / dichloromethane / 1 h / -78 - -40 °C 2.2: -40 - 20 °C View Scheme
参考文献
Bioorganic and Medicinal Chemistry, , vol. 19, # 6 p. 1930 - 1949
2252-50-8
2-氯-5-氟苯甲酸
→
反应条件
261762-59-8
2-氯-5-氟苄醇
反应条件
1: With borane-THF in tetrahydrofuran T=0°C; Reflux; 2: With hydrogenchloride in tetrahydrofuran; water; ethyl acetate Cooling with ice;
参考文献
Bioorganic and Medicinal Chemistry, , vol. 19, # 6 p. 1930 - 1949
67-56-1
甲醇
+
2252-50-8
2-氯-5-氟苯甲酸
→
反应条件
647020-63-1
2-氯-5-氟苯甲酸甲酯
反应条件
sulfuric acid 24 h; Reflux;
参考文献
Wang, Weibo; Li, Tongshuang
Patent: US2011/160212 A1, 2011 ;
Location in patent: Page/Page column 22; 23 ;
