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四甲基二乙烯基二硅氧烷
合成路线
（共 38 条）
2627-95-4
四甲基二乙烯基二硅氧烷
+
576-83-0
2-溴-1,3,5-三甲基苯
→
反应条件
769-25-5
2,4,6-三甲基苯乙烯
反应条件
biphenyl-2-yl-di-tert-butyl-phosphane; bis(η3-allyl-μ-chloropalladium(II)) in N,N-dimethyl-formamide T=40°C; 24 h;
参考文献
Denmark, Scott E.; Butler, Christopher R.
Journal of the American Chemical Society, 2008 , vol. 130, # 11 p. 3690 - 3704
2627-95-4
四甲基二乙烯基二硅氧烷
+
5111-65-9
2-溴-6-甲氧基萘
→
反应条件
63444-51-9
6-甲氧基-2-萘乙烯
反应条件
biphenyl-2-yl-di-tert-butyl-phosphane; bis(η3-allyl-μ-chloropalladium(II)) in N,N-dimethyl-formamide T=25°C; 4 h;
参考文献
Denmark, Scott E.; Butler, Christopher R.
Journal of the American Chemical Society, 2008 , vol. 130, # 11 p. 3690 - 3704
645-00-1
1-碘-3-硝基苯
+
2627-95-4
四甲基二乙烯基二硅氧烷
→
反应条件
586-39-0
3-硝基苯乙烯
反应条件
anhydrous potassium trimethylsilanolate; triphenyl-phosphine oxide; bis(dibenzylideneacetone)-palladium(0) in N,N-dimethyl-formamide T=20 - 40°C; 1 h;
参考文献
Journal of the American Chemical Society, , vol. 130, # 11 p. 3690 - 3704
681-84-5
正硅酸甲酯
+
2627-95-4
四甲基二乙烯基二硅氧烷
→
反应条件
166389-37-3
+
167375-79-3
+
60111-54-8
四(二甲基乙烯基硅氧基)硅烷
反应条件
1: 3,3,5,5-tetramethyl-3,5-disila-4-oxa-1,6-heptadiene With methanol; sulfuric acid T=5 - 10°C; 1 h; 2: orthosilicic acid tetramethyl ester T=5 - 10°C; 1.5 h; 3: With sulfuric acid; water more than 3 stages;
参考文献
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Patent: EP1510520 A1, 2005 ;
Location in patent: Page/Page column 15 ;
2627-95-4
四甲基二乙烯基二硅氧烷
+
529-28-2
2-碘苯甲醚
→
反应条件
612-15-7
2-甲氧基苯乙烯
反应条件
anhydrous potassium trimethylsilanolate; triphenyl-phosphine oxide; bis(dibenzylideneacetone)-palladium(0) in N,N-dimethyl-formamide T=20°C; 14 h;
参考文献
Denmark, Scott E.; Butler, Christopher R.
Journal of the American Chemical Society, 2008 , vol. 130, # 11 p. 3690 - 3704
2627-95-4
四甲基二乙烯基二硅氧烷
+
578-57-4
2-溴苯甲醚
→
反应条件
612-15-7
2-甲氧基苯乙烯
反应条件
biphenyl-2-yl-di-tert-butyl-phosphane; bis(η3-allyl-μ-chloropalladium(II)) in N,N-dimethyl-formamide T=40°C; 24 h;
参考文献
Denmark, Scott E.; Butler, Christopher R.
Journal of the American Chemical Society, 2008 , vol. 130, # 11 p. 3690 - 3704
2627-95-4
四甲基二乙烯基二硅氧烷
+
90-90-4
4-溴苯甲酰苯
→
反应条件
3139-85-3
反应条件
anhydrous potassium trimethylsilanolate; triphenyl-phosphine oxide; palladium tris(dibenzylideneacetone) in tetrahydrofuran 3 h; Heating;
参考文献
Denmark, Scott E.; Butler, Christopher R.
Journal of the American Chemical Society, 2008 , vol. 130, # 11 p. 3690 - 3704
106-39-8
4-溴氯苯
+
2627-95-4
四甲基二乙烯基二硅氧烷
→
反应条件
1073-67-2
4-氯苯乙烯
反应条件
anhydrous potassium trimethylsilanolate; triphenyl-phosphine oxide; palladium tris(dibenzylideneacetone) in tetrahydrofuran 3 h; Heating;
参考文献
Denmark, Scott E.; Butler, Christopher R.
Journal of the American Chemical Society, 2008 , vol. 130, # 11 p. 3690 - 3704
2627-95-4
四甲基二乙烯基二硅氧烷
+
35779-04-5
4-叔丁基碘苯
→
反应条件
1746-23-2
4-叔丁基苯乙烯
反应条件
anhydrous potassium trimethylsilanolate; triphenyl-phosphine oxide; bis(dibenzylideneacetone)-palladium(0) in N,N-dimethyl-formamide T=20°C; 5 h;
参考文献
Journal of the American Chemical Society, , vol. 130, # 11 p. 3690 - 3704
→
反应条件
2469-55-8
反应条件
chloroplatinic acid
参考文献
General Electric Company
Patent: US4631346 A1, 1986 ;
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