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合成路线
（共 1 条）
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→
反应条件
7440-39-3
钡
反应条件
in gas byproducts: CH3F; Irradiation (UV/VIS); by photodissocn. using 617.7 nm irradn.;
参考文献
Gonzalez Urena; Gasmi; Jimenez; Lobo
Chemical Physics Letters, 2002 , vol. 352, # 5-6 p. 369 - 374
