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471-34-1
四(三甲基硅基)硅烷
合成路线
（共 34 条）
75-16-1
甲基溴化镁
+
93794-77-5
→
反应条件
4098-98-0
四(三甲基硅基)硅烷
反应条件
in tetrahydrofuran
参考文献
Boudjouk, Philip; Sooriyakumaran, Ratnasabapathy
Journal of the Chemical Society, Chemical Communications, 1984 , # 12 p. 777 - 778
994-30-9
三乙基氯硅烷
+
513-81-5
2,3-二甲基-1,3-丁二烯
→
反应条件
4098-98-0
四(三甲基硅基)硅烷
反应条件
lithium-tris(trimethylsilyl)silanide Yield given. Multistep reaction. Yields of byproduct given;
参考文献
Ohshita, Joji; Masaoka, Yoshiteru; Masaoka, Shin; Ishikawa, Mitsuo; Tachibana, Akitomo; et al.
Journal of Organometallic Chemistry, 1994 , vol. 473, # 1-2 p. 15 - 18
1873-77-4
三(三甲基硅基)硅烷
→
反应条件
3704-44-7
二甲基-二(三甲基硅烷基)硅烷
+
4098-98-0
四(三甲基硅基)硅烷
+
5089-32-7
+
197305-30-9
反应条件
in hexane 2 h; UV-irradiation; Further byproducts given. Title compound not separated from byproducts;
参考文献
Mohamed, Mustafa; Brook, Michael A.
Canadian Journal of Chemistry, 2000 , vol. 78, # 11 p. 1357 - 1362
1873-77-4
三(三甲基硅基)硅烷
→
反应条件
2003-86-3
+
4098-98-0
四(三甲基硅基)硅烷
+
5089-32-7
+
139347-50-5
1,1,1,5,5,5-六甲基-3-(三甲基硅烷基)-3-三硅氧烷基
反应条件
methanol 2.5 h; UV-irradiation; Title compound not separated from byproducts;
参考文献
Mohamed, Mustafa; Brook, Michael A.
Canadian Journal of Chemistry, 2000 , vol. 78, # 11 p. 1357 - 1362
4110-02-5
+
197797-33-4
→
反应条件
4098-98-0
四(三甲基硅基)硅烷
反应条件
1.) -80 deg C to RT, THF, 2.) THF; Yield given. Multistep reaction;
参考文献
Ohshita, Joji; Nekoda, Eri; Masaoka, Shin; Ishikawa, Mitsuo
Journal of Organometallic Chemistry, 1997 , vol. 544, # 1 p. 49 - 54
994-30-9
三乙基氯硅烷
+
513-81-5
2,3-二甲基-1,3-丁二烯
→
反应条件
4098-98-0
四(三甲基硅基)硅烷
反应条件
1.) THF, -80 deg C, 2.) THF, from -80 deg C to RT; Yield given. Multistep reaction. Yields of byproduct given;
参考文献
Ohshita, Joji; Masaoka, Yoshiteru; Masaoka, Shin; Ishikawa, Mitsuo; Tachibana, Akitomo; et al.
Journal of Organometallic Chemistry, 1994 , vol. 473, # 1-2 p. 15 - 18
4110-02-5
+
18162-48-6
叔丁基二甲基氯硅烷
+
197797-33-4
→
反应条件
4098-98-0
四(三甲基硅基)硅烷
反应条件
1.) THF, -80 deg C to RT, 2.) THF; Yield given. Multistep reaction;
参考文献
Ohshita, Joji; Nekoda, Eri; Masaoka, Shin; Ishikawa, Mitsuo
Journal of Organometallic Chemistry, 1997 , vol. 544, # 1 p. 49 - 54
4098-98-0
四(三甲基硅基)硅烷
→
反应条件
2003-85-2
四(二甲基硅)硅烷
反应条件
1: CH3COBr, AlBr3 / hexane 2: LiAlH4 / diethyl ether View Scheme
参考文献
Herzog; Roewer
Journal of Organometallic Chemistry, 1997 , vol. 527, # 1-2 p. 117 - 124
4098-98-0
四(三甲基硅基)硅烷
→
反应条件
2003-85-2
四(二甲基硅)硅烷
+
134648-83-2
反应条件
lithium aluminium tetrahydride; aluminum tri-bromide; acetyl-bromide 1.) hexane; 2.) Et2O; Yield given. Multistep reaction. Yields of byproduct given;
参考文献
Herzog; Roewer
Journal of Organometallic Chemistry, 1997 , vol. 527, # 1-2 p. 117 - 124
4098-98-0
四(三甲基硅基)硅烷
→
反应条件
1873-77-4
三(三甲基硅基)硅烷
反应条件
1: With potassium tert-butylate in tetrahydrofuran T=30 - 33°C; 5 h; 2: With acetic acid in water T=5 - 10°C; 2 h;
参考文献
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Patent: US6337415 B1, 2002 ;
Location in patent: Example 3 ;
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