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甲醛
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MDI
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二甲基亚砜
碳酸氢钠
471-34-1
二(三氯甲硅烷基)甲烷
合成路线
（共 48 条）
540-59-0
1,2-二氯乙烯
→
反应条件
75-09-2
二氯甲烷
+
2504-64-5
1,2-二(三氯甲硅基)乙烷
+
692-52-4
+
4142-85-2
二(三氯甲硅烷基)甲烷
反应条件
Si2Cl6 T=550°C; 0.00833333 h;
参考文献
Chernyshev; Komalenkova; Kapitova; Bykovchenko
Russian Journal of General Chemistry, 1996 , vol. 66, # 7 p. 1113 - 1116
7440-21-3
硅
→
反应条件
18081-42-0
双(二氯硅基)甲烷
+
4142-85-2
二(三氯甲硅烷基)甲烷
反应条件
dichloromethane; copper in neat (no solvent) Si-Cu (4:1) and gaseous CH2Cl2;;
参考文献
Gmelin Handbook: Si: MVol.C, 63, page 177 - 179
563-47-3
3-氯-2-甲基丙烯
→
反应条件
18147-56-3
+
4142-85-2
二(三氯甲硅烷基)甲烷
+
98-13-5
苯基三氯硅烷
反应条件
Si2Cl6 T=520°C; 0.00833333 h; Further byproducts given;
参考文献
Chernyshev; Komalenkova; Kapitova; Bykovchenko; Khromykh; Bochkarev
Russian Journal of General Chemistry, 1997 , vol. 67, # 7 p. 1040 - 1042
67-66-3
氯仿
→
反应条件
75-09-2
二氯甲烷
+
18171-02-3
+
4142-85-2
二(三氯甲硅烷基)甲烷
反应条件
trichlorosilane T=100°C; 8 h;
参考文献
Jung, Dong Euy; Kang, Seung-Hyun; Han, Joon Soo; Lim, Weon Cheol; Park, Young-ae W.; Yoo, Bok Ryul
Journal of Organometallic Chemistry, 2007 , vol. 692, # 18 p. 3901 - 3906
75-09-2
二氯甲烷
→
反应条件
75-79-6
甲基三氯硅烷
+
18171-02-3
+
4142-85-2
二(三氯甲硅烷基)甲烷
反应条件
trichlorosilane; n-Bu4PCl in N-dodecane T=170°C; 24 h;
参考文献
DOW CORNING CORPORATION; DASH, Aswini; KATSOULIS, Dimitris; MCLAUGHLIN, Matthew; SPARSCHU, Wendy
Patent: WO2014/62255 A1, 2014 ;
Location in patent: Paragraph 0038 ;
56-23-5
四氯化碳
→
反应条件
4142-85-2
二(三氯甲硅烷基)甲烷
反应条件
tetrachlorosilane; hydrogen T=300 - 750°C; Flow reactorInert atmosphere; Catalytic behavior;
参考文献
DOW CORNING CORPORATION; DASH, Aswini; KATSOULIS, Dimitris; MCLAUGHLIN, Matthew; SPARSCHU, Wendy
Patent: WO2014/62255 A1, 2014 ;
Location in patent: Paragraph 0041 ;
7440-21-3
硅
→
反应条件
16538-69-5
+
18171-02-3
+
4142-85-2
二(三氯甲硅烷基)甲烷
+
10025-78-2
三氯氢硅
+
4109-96-0
二氯硅烷
反应条件
dichloromethane; copper in neat (no solvent) Si-Cu (9:1) and a mixt. of gaseous CH2Cl2 and N2 at about 300°C;;
参考文献
Gmelin Handbook: Si: MVol.C, 63, page 177 - 179
56-23-5
四氯化碳
→
反应条件
127-18-4
四氯乙烯
+
4142-85-2
二(三氯甲硅烷基)甲烷
反应条件
tetrachlorosilane; hydrogen T=300 - 750°C; Flow reactor; Catalytic behavior; Reagent/catalyst;
参考文献
DOW CORNING CORPORATION; DASH, Aswini; KATSOULIS, Dimitris; MCLAUGHLIN, Matthew; SPARSCHU, Wendy
Patent: WO2014/62255 A1, 2014 ;
Location in patent: Paragraph 0042 ;
75-09-2
二氯甲烷
→
反应条件
18171-02-3
+
4142-85-2
二(三氯甲硅烷基)甲烷
反应条件
tetrachlorosilane; hydrogen T=300 - 750°C; Flow reactorInert atmosphere; Catalytic behavior;
参考文献
DOW CORNING CORPORATION; DASH, Aswini; KATSOULIS, Dimitris; MCLAUGHLIN, Matthew; SPARSCHU, Wendy
Patent: WO2014/62255 A1, 2014 ;
Location in patent: Paragraph 0037 ;
17760-13-3
三氯甲基三氯硅烷
→
反应条件
4142-85-2
二(三氯甲硅烷基)甲烷
反应条件
tri(n-propyl)amine; trichlorosilane in acetonitrile 1.) r.t., 18 h, 2.) reflux, 16 h;
参考文献
Ruedinger, Christoph; Beruda, Holger; Schmidbaur, Hubert
Zeitschrift fuer Naturforschung, B: Chemical Sciences, 1994 , vol. 49, # 10 p. 1348 - 1360
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