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三甲基氟硅烷
合成路线
（共 440 条）
685-01-8
+
4656-04-6
二(三甲基硅烷基)-汞
→
反应条件
420-56-4
三甲基氟硅烷
+
16029-98-4
碘代三甲硅烷
+
22692-36-0
+
60340-22-9
反应条件
1 h; Ambient temperaturevar. temp. and time; Product distributionMechanism;
参考文献
Datta, Ashok K.; Fields, Roy; Haszeldine, Robert N.
Journal of Chemical Research, Miniprint, 1980 , # 1 p. 235 - 265
22692-36-0
+
4656-04-6
二(三甲基硅烷基)-汞
→
反应条件
1450-14-2
+
420-56-4
三甲基氟硅烷
反应条件
0.5 h; Product distributionMechanism;
参考文献
Datta, Ashok K.; Fields, Roy; Haszeldine, Robert N.
Journal of Chemical Research, Miniprint, 1980 , # 1 p. 235 - 265
559-40-0
+
4656-04-6
二(三甲基硅烷基)-汞
→
反应条件
1450-14-2
+
420-56-4
三甲基氟硅烷
+
107-46-0
反应条件
27 h; Irradiation; Product distributionMechanism;
参考文献
Datta, Ashok K.; Fields, Roy; Haszeldine, Robert N.
Journal of Chemical Research, Miniprint, 1980 , # 1 p. 235 - 265
355-75-9
+
4656-04-6
二(三甲基硅烷基)-汞
→
反应条件
1450-14-2
+
420-56-4
三甲基氟硅烷
+
107-46-0
反应条件
24 h; Irradiation; Product distributionMechanism;
参考文献
Datta, Ashok K.; Fields, Roy; Haszeldine, Robert N.
Journal of Chemical Research, Miniprint, 1980 , # 1 p. 235 - 265
75-02-5
+
4656-04-6
二(三甲基硅烷基)-汞
→
反应条件
1450-14-2
+
993-07-7
+
420-56-4
三甲基氟硅烷
+
107-46-0
+
754-05-2
反应条件
6.5 h; Irradiation; Product distributionMechanism;
参考文献
Datta, Ashok K.; Fields, Roy; Haszeldine, Robert N.
Journal of Chemical Research, Miniprint, 1980 , # 1 p. 235 - 265
75-38-7
+
4656-04-6
二(三甲基硅烷基)-汞
→
反应条件
1450-14-2
+
420-56-4
三甲基氟硅烷
+
107-46-0
+
115134-87-7
+
115134-89-9
反应条件
17.5 h; Irradiation; Product distributionMechanism;
参考文献
Datta, Ashok K.; Fields, Roy; Haszeldine, Robert N.
Journal of Chemical Research, Miniprint, 1980 , # 1 p. 235 - 265
360-89-4
+
4656-04-6
二(三甲基硅烷基)-汞
→
反应条件
1450-14-2
+
420-56-4
三甲基氟硅烷
反应条件
14 h; Irradiationvar. amount of reaction partners; Product distributionMechanism;
参考文献
Datta, Ashok K.; Fields, Roy; Haszeldine, Robert N.
Journal of Chemical Research, Miniprint, 1980 , # 1 p. 235 - 265
1630-77-9
+
4656-04-6
二(三甲基硅烷基)-汞
→
反应条件
1450-14-2
+
420-56-4
三甲基氟硅烷
+
107-46-0
+
115134-91-3
+
115134-92-4
反应条件
6 h; Irradiation; Product distributionMechanism;
参考文献
Datta, Ashok K.; Fields, Roy; Haszeldine, Robert N.
Journal of Chemical Research, Miniprint, 1980 , # 1 p. 235 - 265
359-11-5
+
4656-04-6
二(三甲基硅烷基)-汞
→
反应条件
1450-14-2
+
993-07-7
+
420-56-4
三甲基氟硅烷
+
107-46-0
+
17718-88-6
+
17757-15-2
反应条件
23 h; Irradiation; Product distributionMechanism;
参考文献
Datta, Ashok K.; Fields, Roy; Haszeldine, Robert N.
Journal of Chemical Research, Miniprint, 1980 , # 1 p. 235 - 265
463-51-4
+
420-56-4
三甲基氟硅烷
→
反应条件
10132-71-5
反应条件
T=22°C; Irradiation; Rate constant;
参考文献
Bell, T. N.; Sherwood, A. G.; Soto-Garrido, G.
Journal of Physical Chemistry, 1986 , vol. 90, # 6 p. 1184 - 1186
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