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二乙基二乙氧基硅烷
合成路线
（共 50 条）
24622-77-3
→
反应条件
5021-93-2
二乙基二乙氧基硅烷
+
17985-18-1
反应条件
Iodine bromide T=20°C; Equilibrium constant;
参考文献
Ito, Katsuko; Ibaraki, Takeshi
Bulletin of the Chemical Society of Japan, 1988 , vol. 61, # 8 p. 2853 - 2858
78-10-4
硅酸四乙酯
+
75-00-3
乙基氯
+
675-62-7
(3,3,3-三氟丙基)二氯甲基硅烷
→
反应条件
78-07-9
乙基三乙氧基硅烷
+
5021-93-2
二乙基二乙氧基硅烷
反应条件
magnesium in toluene T=60°C; 1 h; other temperature, reaction time; Product distribution;
参考文献
Klokov
Russian Journal of Applied Chemistry, 1998 , vol. 71, # 3 p. 479 - 482
18171-09-0
→
反应条件
5021-93-2
二乙基二乙氧基硅烷
反应条件
1: (i) Na, Et2O, (ii) /BRN= 1736249/ 2: 260 - 285 °C View Scheme
参考文献
Orlov,N.F. et al.
J. Gen. Chem. USSR (Engl. Transl.), 1965 , vol. 35, # 12 p. 2193 - 2197,2180 - 2184
4631-53-2
→
反应条件
5021-93-2
二乙基二乙氧基硅烷
反应条件
1: 245 - 255 °C / 50 Torr 2: 260 - 285 °C View Scheme
参考文献
Orlov,N.F. et al.
J. Gen. Chem. USSR (Engl. Transl.), 1965 , vol. 35, # 12 p. 2193 - 2197,2180 - 2184
4667-38-3
二氯二氧基矽烷
+
925-90-6
乙基溴化镁
→
反应条件
5021-93-2
二乙基二乙氧基硅烷
反应条件
暂无反应条件数据
参考文献
Kumada
J. Inst. Polytech. Osaka City Univ. <C>, 1951 , vol. 2, p. 11,14
597-67-1
乙氧基三乙基硅烷
+
18246-71-4
丁氧基乙氧基二甲基硅烷
→
反应条件
17841-44-0
+
5021-93-2
二乙基二乙氧基硅烷
反应条件
Iodine bromide T=20°C; Equilibrium constant;
参考文献
Ito, Katsuko; Ibaraki, Takeshi
Bulletin of the Chemical Society of Japan, 1988 , vol. 61, # 8 p. 2853 - 2858
358-06-5
二乙基-二氟硅烷
+
555-75-9
三乙醇铝
→
反应条件
665-62-3
+
5021-93-2
二乙基二乙氧基硅烷
反应条件
暂无反应条件数据
参考文献
Kali Chemie A.G.
Patent: DE950636 , 1956 ;
78-10-4
硅酸四乙酯
+
2386-64-3
乙基氯化镁
+
149-74-6
甲基苯基二氯硅烷
→
反应条件
78-07-9
乙基三乙氧基硅烷
+
74-84-0
乙烷
+
54509-73-8
+
597-67-1
乙氧基三乙基硅烷
+
5021-93-2
二乙基二乙氧基硅烷
反应条件
magnesium in toluene 1 h; various reaction times, grain size of Mg, effect of additives; Product distribution;
参考文献
Klokov
Russian Journal of Applied Chemistry, 1998 , vol. 71, # 9 p. 1587 - 1592
78-10-4
硅酸四乙酯
+
675-62-7
(3,3,3-三氟丙基)二氯甲基硅烷
+
2386-64-3
乙基氯化镁
→
反应条件
78-07-9
乙基三乙氧基硅烷
+
597-67-1
乙氧基三乙基硅烷
+
5021-93-2
二乙基二乙氧基硅烷
反应条件
in toluene Heatingeffect of concentration, other reagents; Product distribution;
参考文献
Klokov
Russian Journal of Applied Chemistry, 1998 , vol. 71, # 3 p. 479 - 482
78-10-4
硅酸四乙酯
+
2386-64-3
乙基氯化镁
→
反应条件
115-21-9
乙基三氯硅烷
+
631-36-7
四乙基硅烷
+
994-30-9
三乙基氯硅烷
+
5021-93-2
二乙基二乙氧基硅烷
+
994-49-0
六乙基二硅氧烷
+
1719-53-5
二氯二乙基硅烷
反应条件
tetrachlorosilane multistep reaction; Product distribution;
参考文献
Klokov
Russian Journal of Applied Chemistry, 1998 , vol. 71, # 10 p. 1863 - 1865
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