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4,4-二甲基恶唑啉
合成路线
（共 5 条）
50-00-0
甲醛
+
124-68-5
2-氨基-2-甲基-1-丙醇
→
反应条件
51200-87-4
4,4-二甲基恶唑啉
反应条件
in benzene
参考文献
Habermehl,G.
Chemische Berichte, 1963 , vol. 96, p. 2029 - 2034
693-98-1
2-甲基咪唑
+
27387-31-1
1,2,3,9-四氢-9-甲基咔唑酮
+
51200-87-4
4,4-二甲基恶唑啉
→
反应条件
99614-02-5
昂丹司琼
反应条件
methanesulfonic acid in butan-1-ol T=80 - 120°C; 2.86667 h;
参考文献
WO2004/46116 A1, ;
Page 12-13 ;
WO 2004/046116 A1
693-98-1
2-甲基咪唑
+
27387-31-1
1,2,3,9-四氢-9-甲基咔唑酮
+
51200-87-4
4,4-二甲基恶唑啉
→
反应条件
99614-02-5
昂丹司琼
反应条件
methanesulfonic acid in butan-1-ol T=80 - 120°C; 2.86667 h;
参考文献
WO2004/46116 A1, ;
Page 12-13 ;
WO 2004/046116 A1
51200-87-4
4,4-二甲基恶唑啉
→
反应条件
113779-03-6
反应条件
oxygen 1.) CH3CN, irradiation, 4 h, 2.) CH3CN, 14 h; Yield given. Multistep reaction. Yields of byproduct given;
参考文献
Hegedus,L.S.; De Weck,G.; D'Andrea,S.
Journal of the American Chemical Society, 1988 , vol. 110, p. 2122
693-98-1
2-甲基咪唑
+
27387-31-1
1,2,3,9-四氢-9-甲基咔唑酮
+
51200-87-4
4,4-二甲基恶唑啉
→
反应条件
99614-02-5
昂丹司琼
反应条件
methanesulfonic acid in butan-1-ol T=80 - 120°C; 2.86667 h;
参考文献
SOLVAY PHARMACEUTICALS B.V.
Patent: WO2004/46116 A1, 2004 ;
Location in patent: Page 12-13 ;
WO 2004/046116 A1
