您好,欢迎来到魔法化学网!
合作交流
|
服务时间(9:30-18:00)
百科
百科
▼
百科
资讯
搜索
结构式
乙二醇
甲醛
63148-62-9
MDI
丁酮
二甲基亚砜
碳酸氢钠
471-34-1
首页
化合物百科
价格行情
资讯
化工导航
实验室工具
搜索
乙二醇
甲醛
63148-62-9
MDI
丁酮
二甲基亚砜
碳酸氢钠
471-34-1
5272-21-9
合成路线
(共 6 条)
107-46-0
聚二甲基硅氧烷
+
7671-19-4
双(三甲基硅氧基)甲基甲氧基硅烷
+
5272-21-9
→
反应条件
17928-28-8
甲基三(三甲基硅氧烷基)硅烷
反应条件
sulfuric acid T=20 - 25°C; 3 h; Product distribution / selectivity;
参考文献
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Patent: EP1510520 A1, 2005 ;
Location in patent: Page/Page column 10 ;
22407-46-1
→
反应条件
5272-21-9
反应条件
sodium hydrogencarbonate in diethyl ether; water 0.5 h;
参考文献
Scheim, U.; Grosse-Ruyken, H.; Ruehlmann, K.; Porzel, A.
Journal of Organometallic Chemistry, 1985 , vol. 293, p. 29 - 36
1185-55-3
甲基三甲氧基硅烷
+
107-46-0
聚二甲基硅氧烷
→
反应条件
17928-28-8
甲基三(三甲基硅氧烷基)硅烷
+
7671-19-4
双(三甲基硅氧基)甲基甲氧基硅烷
+
5272-21-9
反应条件
1: bis-trimethylsilyl ether With methanol; sulfuric acid T=5 - 10°C; 1 h; 2: monomethyl trimethoxy silane T=5 - 10°C; 1.5 - 1.75 h; 3: With sulfuric acid; water Product distribution / selectivity; more than 3 stages;
参考文献
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Patent: EP1510520 A1, 2005 ;
Location in patent: Page/Page column 10-11 ;
75-77-4
三甲基氯硅烷
+
75-79-6
甲基三氯硅烷
→
反应条件
17928-28-8
甲基三(三甲基硅氧烷基)硅烷
+
2003-92-1
1,1,1,3,5,7,7,7-八甲基-3,5-二(三甲基硅烷氧基)四硅氧烷
+
5272-21-9
+
86105-21-7
反应条件
water in toluene T=20°C; 27 h; Yield given. Yields of byproduct given;
参考文献
Kopylov, V. M.; Agashkov, S. P.; Sunkovich, G. V.; Prikhod'ko, P. L.
J. Gen. Chem. USSR (Engl. Transl.), 1991 , vol. 61, # 3.2 p. 762 - 769,692 - 697
107-51-7
聚二甲基硅氧烷
→
反应条件
1066-40-6
三甲基硅醇
+
541-05-9
六甲基环三硅氧烷
+
556-67-2
八甲基环四硅氧烷
+
5272-21-9
+
85461-52-5
反应条件
nitrous acid methyl ester; nitrogen(II) oxide T=23.9°C; P=760 Torr; Irradiationgeneration of OH radicals; reactions of siloxanes with hydroxyl radicals; siloxane atmospheric reactions; proposed reaction mechanism; products formation pathways; Rate constantProduct distribution;
参考文献
Markgraf, Stewart J.; Wells
International Journal of Chemical Kinetics, 1997 , vol. 29, # 6 p. 445 - 451
141-62-8
十甲基四硅氧烷
→
反应条件
1066-40-6
三甲基硅醇
+
556-67-2
八甲基环四硅氧烷
+
56428-93-4
+
5272-21-9
+
85461-52-5
反应条件
nitrous acid methyl ester; nitrogen(II) oxide T=23.9°C; P=760 Torr; Irradiationgeneration of OH radicals; reactions of siloxanes with hydroxyl radicals; siloxane atmospheric reactions; proposed reaction mechanism; products formation pathways; Rate constantProduct distribution;
参考文献
Markgraf, Stewart J.; Wells
International Journal of Chemical Kinetics, 1997 , vol. 29, # 6 p. 445 - 451