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5291-20-3
合成路线
（共 3 条）
5291-20-3
→
反应条件
109722-74-9
反应条件
triethylsilane; trifluoroacetic acid T=20°C; 24 h;
参考文献
Jagtap, Prakash; Baloglu, Erkan; van Duzer, John H.; Szabo, Csaba; Salzman, Andrew L.
Patent: US2003/171392 A1, 2003 ;
5291-20-3
→
反应条件
501364-67-6
反应条件
1: 87 percent / triethylsilane; trifluoroacetic acid / 24 h / 20 °C 2: 92 percent / chlorosulfonyl chloride / 2 h / 20 °C View Scheme
参考文献
Jagtap, Prakash G.; Baloglu, Erkan; Southan, Garry J.; Mabley, Jon G.; Li, Hongshan; Zhou, Jing; Van Duzer, John; Salzman, Andrew L.; Szabo, Csaba
Journal of Medicinal Chemistry, 2005 , vol. 48, # 16 p. 5100 - 5103
5291-20-3
→
反应条件
501364-82-5
6,11-二氢-N-[3-(4-吗啉)丙基]-5-氧代-5H-茚并[1,2-c]异喹啉-9-磺酰胺
反应条件
1: 87 percent / triethylsilane; trifluoroacetic acid / 24 h / 20 °C 2: 92 percent / chlorosulfonyl chloride / 2 h / 20 °C 3: 56 percent / Et3N / CH2Cl2 / 24 h / 20 °C View Scheme
参考文献
Jagtap, Prakash G.; Baloglu, Erkan; Southan, Garry J.; Mabley, Jon G.; Li, Hongshan; Zhou, Jing; Van Duzer, John; Salzman, Andrew L.; Szabo, Csaba
Journal of Medicinal Chemistry, 2005 , vol. 48, # 16 p. 5100 - 5103
