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含羞草霉素
合成路线
（共 17 条）
114252-31-2
→
反应条件
59493-94-6
含羞草霉素
反应条件
ammonium cerium(IV) nitrate in water; acetonitrile T=0°C; Oxidation; 0.5 h;
参考文献
Kesteleyn, Bart; De Kimpe, Norbert
Journal of Organic Chemistry, 2000 , vol. 65, # 3 p. 635 - 639
123641-95-2
→
反应条件
59493-94-6
含羞草霉素
反应条件
selenium(IV) oxide; toluene-4-sulfonic acid in 1,4-dioxane T=80°C; 14 h;
参考文献
Saito, Naoki; Tanaka, Chieko; Koizumi, Yu-Ichi; Suwanborirux, Khanit; Amnuoypol, Surattana; Pummangura, Sunibhond; Kubo, Akinori
Tetrahedron, 2004 , vol. 60, # 17 p. 3873 - 3881
86433-78-5
→
反应条件
59493-94-6
含羞草霉素
反应条件
1: With 3-chloro-benzenecarboperoxoic acid in dichloromethane T=-40°C; 0.5 h; Polonovski reaction; 2: With acetic anhydride; triethylamine T=0°C; 1 h;
参考文献
Nakahara, Shinsuke; Kubo, Akinori
Heterocycles, 2004 , vol. 63, # 8 p. 1849 - 1854
304852-37-7
→
反应条件
59493-94-6
含羞草霉素
反应条件
selenium(IV) oxide; toluene-4-sulfonic acid in 1,4-dioxane T=80°C; 12 h;
参考文献
Saito, Naoki; Tanaka, Chieko; Koizumi, Yu-Ichi; Suwanborirux, Khanit; Amnuoypol, Surattana; Pummangura, Sunibhond; Kubo, Akinori
Tetrahedron, 2004 , vol. 60, # 17 p. 3873 - 3881
114252-26-5
→
反应条件
59493-94-6
含羞草霉素
反应条件
1: CH2Cl2 2: 82 percent / H2 / Ni/Ra / ethanol; acetic anhydride / 120 h / 2068.6 Torr 3: 55 percent / BH3 / tetrahydrofuran / 1 h / Heating 4: 18 percent / AgO, 6 M HNO3 / dioxane / sonication View Scheme
参考文献
Parker, Kathlyn A.; Casteel, Dee Ann
Journal of Organic Chemistry, 1988 , vol. 53, # 12 p. 2847 - 2850
114252-27-6
→
反应条件
59493-94-6
含羞草霉素
反应条件
1: 82 percent / H2 / Ni/Ra / ethanol; acetic anhydride / 120 h / 2068.6 Torr 2: 55 percent / BH3 / tetrahydrofuran / 1 h / Heating 3: 18 percent / AgO, 6 M HNO3 / dioxane / sonication View Scheme
参考文献
Parker, Kathlyn A.; Casteel, Dee Ann
Journal of Organic Chemistry, 1988 , vol. 53, # 12 p. 2847 - 2850
631913-64-9
→
反应条件
59493-94-6
含羞草霉素
反应条件
1: 26.8 percent / lithium aluminium hydride / tetrahydrofuran / 1 h / 0 °C 2: 72.9 percent / triethylamine; 4-(dimethylamino)pyridine / CH2Cl2 / 1 h / 25 °C 3: 82.9 percent / AgNO3 / acetonitrile; H2O / 2 h / 40 °C 4: 20.5 percent / p-toluenesulfonic acid; selenium oxide / dioxane / 12 h / 80 °C View Scheme
参考文献
Saito, Naoki; Tanaka, Chieko; Koizumi, Yu-Ichi; Suwanborirux, Khanit; Amnuoypol, Surattana; Pummangura, Sunibhond; Kubo, Akinori
Tetrahedron, 2004 , vol. 60, # 17 p. 3873 - 3881
1015459-89-8
→
反应条件
59493-94-6
含羞草霉素
反应条件
air; trifluoroacetic acid in chloroform T=20°C; 72 h;
参考文献
Saito, Naoki; Koizumi, Yu-Ichi; Tanaka, Chieko; Suwanborirux, Khanit; Amnuoypol, Surattana; Kubo, Akinori
Heterocycles, 2003 , vol. 61, p. 79 - 86
701911-93-5
→
反应条件
59493-94-6
含羞草霉素
反应条件
1: 53.3 percent / aluminium hydride / Pd(OH)2/C / tetrahydrofuran / 4 h / -20 °C 2: 72.9 percent / triethylamine; 4-(dimethylamino)pyridine / CH2Cl2 / 1 h / 25 °C 3: 82.9 percent / AgNO3 / acetonitrile; H2O / 2 h / 40 °C 4: 20.5 percent / p-toluenesulfonic acid; selenium oxide / dioxane / 12 h / 80 °C View Scheme
参考文献
Saito, Naoki; Tanaka, Chieko; Koizumi, Yu-Ichi; Suwanborirux, Khanit; Amnuoypol, Surattana; Pummangura, Sunibhond; Kubo, Akinori
Tetrahedron, 2004 , vol. 60, # 17 p. 3873 - 3881
→
反应条件
59493-94-6
含羞草霉素
反应条件
potassium carbonate in N,N-dimethyl-formamide T=60°C; 2 h;
参考文献
McKillop, Alexander; Brown, Stephen P.
Synthetic Communications, 1987 , vol. 17, # 6 p. 657 - 668
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