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含羞草霉素
合成路线
（共 17 条）
260969-88-8
→
反应条件
59493-94-6
含羞草霉素
反应条件
1.1: ZnCl2; conc. HCl / acetic acid / 72 h / 20 °C 1.2: 85 percent / K2CO3 / acetone / 1 h / Heating 2.1: 89 percent / HCl / 6 h / 20 °C 3.1: 94 percent / methanol / 24 h / 10 °C 4.1: 57 percent / CAN / acetonitrile; H2O / 0.5 h / 0 °C View Scheme
参考文献
Kesteleyn, Bart; De Kimpe, Norbert
Journal of Organic Chemistry, 2000 , vol. 65, # 3 p. 635 - 639
260969-87-7
→
反应条件
59493-94-6
含羞草霉素
反应条件
1.1: 79 percent / K2CO3 / acetone / 2 h / Heating 2.1: ZnCl2; conc. HCl / acetic acid / 72 h / 20 °C 2.2: 85 percent / K2CO3 / acetone / 1 h / Heating 3.1: 89 percent / HCl / 6 h / 20 °C 4.1: 94 percent / methanol / 24 h / 10 °C 5.1: 57 percent / CAN / acetonitrile; H2O / 0.5 h / 0 °C View Scheme
参考文献
Kesteleyn, Bart; De Kimpe, Norbert
Journal of Organic Chemistry, 2000 , vol. 65, # 3 p. 635 - 639
260969-89-9
→
反应条件
59493-94-6
含羞草霉素
反应条件
1: 89 percent / HCl / 6 h / 20 °C 2: 94 percent / methanol / 24 h / 10 °C 3: 57 percent / CAN / acetonitrile; H2O / 0.5 h / 0 °C View Scheme
参考文献
Kesteleyn, Bart; De Kimpe, Norbert
Journal of Organic Chemistry, 2000 , vol. 65, # 3 p. 635 - 639
260969-90-2
→
反应条件
59493-94-6
含羞草霉素
反应条件
1: 94 percent / methanol / 24 h / 10 °C 2: 57 percent / CAN / acetonitrile; H2O / 0.5 h / 0 °C View Scheme
参考文献
Kesteleyn, Bart; De Kimpe, Norbert
Journal of Organic Chemistry, 2000 , vol. 65, # 3 p. 635 - 639
114252-30-1
→
反应条件
59493-94-6
含羞草霉素
反应条件
1: 55 percent / BH3 / tetrahydrofuran / 1 h / Heating 2: 18 percent / AgO, 6 M HNO3 / dioxane / sonication View Scheme
参考文献
Parker, Kathlyn A.; Casteel, Dee Ann
Journal of Organic Chemistry, 1988 , vol. 53, # 12 p. 2847 - 2850
701911-92-4
→
反应条件
59493-94-6
含羞草霉素
反应条件
1: 72.9 percent / triethylamine; 4-(dimethylamino)pyridine / CH2Cl2 / 1 h / 25 °C 2: 82.9 percent / AgNO3 / acetonitrile; H2O / 2 h / 40 °C 3: 20.5 percent / p-toluenesulfonic acid; selenium oxide / dioxane / 12 h / 80 °C View Scheme
参考文献
Saito, Naoki; Tanaka, Chieko; Koizumi, Yu-Ichi; Suwanborirux, Khanit; Amnuoypol, Surattana; Pummangura, Sunibhond; Kubo, Akinori
Tetrahedron, 2004 , vol. 60, # 17 p. 3873 - 3881
701911-94-6
→
反应条件
59493-94-6
含羞草霉素
反应条件
1: 82.9 percent / AgNO3 / acetonitrile; H2O / 2 h / 40 °C 2: 20.5 percent / p-toluenesulfonic acid; selenium oxide / dioxane / 12 h / 80 °C View Scheme
参考文献
Saito, Naoki; Tanaka, Chieko; Koizumi, Yu-Ichi; Suwanborirux, Khanit; Amnuoypol, Surattana; Pummangura, Sunibhond; Kubo, Akinori
Tetrahedron, 2004 , vol. 60, # 17 p. 3873 - 3881
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