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甲基三氯硅烷
合成路线
（共 444 条）
1185-55-3
甲基三甲氧基硅烷
→
反应条件
75-79-6
甲基三氯硅烷
反应条件
thionyl chloride; N,N-dimethyl-formamide T=55°C; P=760.051 Torr; 2 h;
参考文献
Dow Corning Corporation; Vassilares, Plousia E.; Katsoulis, Dimitris Elias; Kenney, Malcolm E.
Patent: EP2639236 A1, 2013 ;
Location in patent: Paragraph 0035; 0062-0064 ;
2031-67-6
甲基三乙氧基硅烷
→
反应条件
75-79-6
甲基三氯硅烷
反应条件
thionyl chloride; N,N-dimethyl-formamide T=55°C; P=760.051 Torr; 7 h;
参考文献
Dow Corning Corporation; Vassilares, Plousia E.; Katsoulis, Dimitris Elias; Kenney, Malcolm E.
Patent: EP2639236 A1, 2013 ;
Location in patent: Paragraph 0035; 0062-0064 ;
7440-21-3
硅
→
反应条件
75-79-6
甲基三氯硅烷
反应条件
anhydrous methyl chloride; copper in neat (no solvent) Si-Cu and a mixt. of CH3Cl, H2 and Cl2 at 350°C;;
参考文献
Gmelin Handbook: Si: MVol.C, 42, page 126 - 128
Full Text Show Details
Nissin Chemical Industries Co.
Patent: JP4519 , 1951 ;
C. A., 1953 , p. 9344
74-87-3
氯甲烷
→
反应条件
75-79-6
甲基三氯硅烷
+
75-78-5
二氯二甲基硅烷
反应条件
tetrachlorosilane; palladium silicide; hydrogen T=400 - 850°C; 5 h; Product distribution / selectivity;
参考文献
WO2012/102957 A1, ;
Page/Page column 11 ;
75-54-7
甲基二氯硅烷
+
107-05-1
氯丙烯
→
反应条件
75-79-6
甲基三氯硅烷
+
4518-94-9
二氯甲基-N-丙基硅烷
+
7787-93-1
反应条件
T=65°C; 12 h;
参考文献
Journal of Organometallic Chemistry, , vol. 188, # 1 p. 25 - 52
74-87-3
氯甲烷
→
反应条件
75-79-6
甲基三氯硅烷
反应条件
palladium silicide T=400 - 500°C; 7.5 h; Inert atmosphere; Product distribution / selectivity;
参考文献
DOW CORNING CORPORATION; ANDERSON, Kurt, E.; DASH, Aswini, K.; HALL, Charles, Alan; KATSOULIS, Dimitris; WINELAND, Jonathan, David
Patent: WO2012/102957 A1, 2012 ;
Location in patent: Page/Page column 10 ;
75-54-7
甲基二氯硅烷
+
107-05-1
氯丙烯
→
反应条件
75-79-6
甲基三氯硅烷
+
7787-93-1
反应条件
Marko catalyst in toluene T=40 - 60°C; 16 h; Overall yield = 66 percentSpectr.;
参考文献
Journal of Catalysis, , vol. 295, p. 1 - 14
7440-21-3
硅
→
反应条件
75-79-6
甲基三氯硅烷
+
10026-04-7
四氯硅烷
+
10025-78-2
三氯氢硅
+
75-78-5
二氯二甲基硅烷
反应条件
anhydrous methyl chloride; copper in neat (no solvent) mixt. of CH3Cl/N2 (2:5) and Si-Cu (9:1) at 300°C;;
参考文献
Si: MVol.C, 42, page 126 - 128
US2380999 , ;
C. A., , p. 4889
74-87-3
氯甲烷
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
75-54-7
甲基二氯硅烷
+
75-79-6
甲基三氯硅烷
+
75-78-5
二氯二甲基硅烷
反应条件
tin; aluminum silicide; zinc(II) oxide; copper dichloride T=280 - 300°C; Rochow reaction; 6 h;
参考文献
US6339167 B2, ;
Table 1 ;
10026-04-7
四氯硅烷
+
75-24-1
三甲基铝
→
反应条件
75-79-6
甲基三氯硅烷
反应条件
tributyl-amine T=0 - 60°C; 0.75 h;
参考文献
EP1464647 A2, ;
Page 11 ;
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