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二甲基亚砜
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471-34-1
甲基三氯硅烷
合成路线
(共 444 条)
75-77-4
三甲基氯硅烷
+
75-79-6
甲基三氯硅烷
→
反应条件
75-78-5
二氯二甲基硅烷
反应条件
T=375°C;
参考文献
Gen.Electric Co.
Patent: US2717257 , 1952 ;
Full Text Show Details
Bluestein; McEntee
Adv.Chem.Ser., 1959 , vol. 23, p. 233,238
75-79-6
甲基三氯硅烷
→
反应条件
75-77-4
三甲基氯硅烷
+
75-78-5
二氯二甲基硅烷
反应条件
Al-MCM-41 with 15:1 Si/Al ratio T=149.84°C; P=760.051 Torr; Inert atmosphere;
参考文献
Fu, Qiong; Zhang, Ning; Zhang, Jun; Hong, Sanguo
Phosphorus, Sulfur and Silicon and the Related Elements, 2012 , vol. 187, # 10 p. 1183 - 1194
7446-70-0
氯化铝
+
75-79-6
甲基三氯硅烷
→
反应条件
10026-04-7
四氯硅烷
+
75-78-5
二氯二甲基硅烷
反应条件
T=375 - 450°C; P=47072.5 - 73550.8 Torr;
参考文献
Zemany; Price
Journal of the American Chemical Society, 1948 , vol. 70, p. 4222
Full Text View citing articles Show Details
Sauer; Hadsell
Journal of the American Chemical Society, 1948 , vol. 70, p. 3593
75-79-6
甲基三氯硅烷
→
反应条件
75-54-7
甲基二氯硅烷
+
75-78-5
二氯二甲基硅烷
反应条件
T=450°C;
参考文献
Gen.Electric Co.
Patent: US2406605 , 1945 ;
Full Text Show Details
Hurd
Journal of the American Chemical Society, 1945 , vol. 67, p. 1546,1547
75-79-6
甲基三氯硅烷
+
74-87-3
氯甲烷
→
反应条件
75-54-7
甲基二氯硅烷
+
75-77-4
三甲基氯硅烷
+
75-78-5
二氯二甲基硅烷
反应条件
T=450°C;
参考文献
Gen.Electric Co.
Patent: US2403370 , 1945 ;
Full Text Show Details
Hurd
Journal of the American Chemical Society, 1945 , vol. 67, p. 1546,1547
75-79-6
甲基三氯硅烷
→
反应条件
75-54-7
甲基二氯硅烷
+
1066-35-9
二甲基一氯硅烷
+
75-78-5
二氯二甲基硅烷
反应条件
aluminium trichloride; titanium(II) hydride T=300°C; 20 h; var. reaction partners and times; other silicon compounds; Product distribution;
参考文献
Journal of Organometallic Chemistry, , vol. 206, # 3 p. 279 - 286
75-79-6
甲基三氯硅烷
→
反应条件
10026-04-7
四氯硅烷
+
10025-78-2
三氯氢硅
反应条件
hydrogen; Rh/C T=800°C; Product distribution / selectivity;
参考文献
WO2012/82686 A1, ;
Page/Page column 28-29 ;
75-79-6
甲基三氯硅烷
→
反应条件
10026-04-7
四氯硅烷
+
10025-78-2
三氯氢硅
+
4109-96-0
二氯硅烷
反应条件
hydrogen; Rh, Re/C T=600°C; P=20686.5 Torr; Product distribution / selectivity;
参考文献
DOW CORNING CORPORATION; BERGER, Stephanie; KATSOULIS, Dimitris; LARSEN, Robert, Thomas; MCLAUGHLIN, Matthew, J.; PILLAI, Unnikrishnan, R.; WINELAND, Jonathan, David
Patent: WO2012/82686 A1, 2012 ;
Location in patent: Page/Page column 24 ;
75-79-6
甲基三氯硅烷
→
反应条件
75-54-7
甲基二氯硅烷
+
10026-04-7
四氯硅烷
+
10025-78-2
三氯氢硅
反应条件
hydrogen; Rh/C T=700°C; Product distribution / selectivity;
参考文献
WO2012/82686 A1, ;
Page/Page column 28-29 ;
75-79-6
甲基三氯硅烷
→
反应条件
75-54-7
甲基二氯硅烷
+
10026-04-7
四氯硅烷
+
10025-78-2
三氯氢硅
+
4109-96-0
二氯硅烷
反应条件
hydrogen; Rh, Re/C T=600°C; P=5171.62 Torr; Product distribution / selectivity;
参考文献
DOW CORNING CORPORATION; BERGER, Stephanie; KATSOULIS, Dimitris; LARSEN, Robert, Thomas; MCLAUGHLIN, Matthew, J.; PILLAI, Unnikrishnan, R.; WINELAND, Jonathan, David
Patent: WO2012/82686 A1, 2012 ;
Location in patent: Page/Page column 24 ;
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