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合成路线
（共 1 条）
75529-56-5
→
反应条件
75529-62-3
+
2170-06-1
苯基乙炔基三甲基硅烷
反应条件
in hexane 0.666667 h; Irradiation;
参考文献
Journal of Organometallic Chemistry, , vol. 194, # 2 p. 147 - 158
