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碳酸氢钠
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六氟乙烷
合成路线
（共 360 条）
76-16-4
六氟乙烷
+
112926-00-8
高纯度硅胶I
→
反应条件
7783-61-1
四氟化硅
反应条件
in neat (no solvent) Kinetics; etching of SiO2 film on Si wafer by C2F6/Ar mixt.; detd. by FTIR;
参考文献
Journal of the Electrochemical Society, , vol. 150, # 11 p. G707-G710
→
反应条件
7783-61-1
四氟化硅
反应条件
in neat (no solvent) byproducts: CO2, CO; reaction at 842°C; start of reaction at 600°C;;
参考文献
Journal of the American Chemical Society, , vol. 69, p. 267 - 270
Si: MVol.B, 207, page 576 - 578
76-16-4
六氟乙烷
+
112926-00-8
高纯度硅胶I
→
反应条件
124-38-9
二氧化碳
+
7664-39-3
氢氟酸
+
7783-61-1
四氟化硅
反应条件
in neat (no solvent) Kinetics; byproducts: CF4, COF2, CF3OF; etching of quartz plate or SiO2 film with C2F6 diluted with N2, pressure150, 250 or 350 Pa; detd. by IR;
参考文献
Journal of the Electrochemical Society, , vol. 151, # 5 p. G297-G301
76-16-4
六氟乙烷
→
反应条件
354-33-6
五氟乙烷
+
34557-54-5
+
74-84-0
乙烷
+
54509-73-8
+
74-99-7
丙炔
+
74-86-2
乙炔
反应条件
water; calcium 1.) -196 deg C; Product distribution;
参考文献
Billups, W. E.; Bell, John P.; Margrave, John L.; Hauge, Robert H.
Journal of Fluorine Chemistry, 1984 , vol. 26, p. 165 - 168
76-16-4
六氟乙烷
→
反应条件
354-33-6
五氟乙烷
+
34557-54-5
+
74-84-0
乙烷
+
54509-73-8
+
74-99-7
丙炔
+
74-86-2
乙炔
反应条件
water; calcium 1.) -196 deg C; Product distribution;
参考文献
Billups, W. E.; Bell, John P.; Margrave, John L.; Hauge, Robert H.
Journal of Fluorine Chemistry, 1984 , vol. 26, p. 165 - 168
76-16-4
六氟乙烷
→
反应条件
116-14-3
+
76-19-7
+
75-46-7
+
355-25-9
反应条件
hydrogen P=4 Torr; Irradiation; Product distributionMechanism;
参考文献
Brown, Carl E.; Smith, Donald R.
Canadian Journal of Chemistry, 1988 , vol. 66, p. 609 - 614
76-16-4
六氟乙烷
→
反应条件
2314-97-8
反应条件
dihydrogen peroxide; iodine monofluoride; bis(acetylacetonate)oxovanadium in water Heating / reflux; Product distribution / selectivity;
参考文献
Honeywell International Inc.
Patent: US7132578 B1, 2006 ;
Location in patent: Page/Page column 6 ;
76-16-4
六氟乙烷
→
反应条件
75-63-8
反应条件
bromine T=900 - 925°C;
参考文献
Bagratashvili, V. N.; Kuzmin, M. V.; Letokhov, V. S.
Journal of Physical Chemistry, 1984 , vol. 88, # 24 p. 5780 - 5786
76-16-4
六氟乙烷
+
7726-95-6
→
反应条件
75-63-8
反应条件
in neat (no solvent) formation at 900-925°C;;
参考文献
Brice; Pearlson; Simons
Journal of the American Chemical Society, 1949 , vol. 71, p. 2499
76-16-4
六氟乙烷
→
反应条件
75-73-0
+
76-19-7
+
678-26-2
+
355-25-9
反应条件
P=50 Torr; IrradiationCo-60 gamma radiolysis, both pure and with 10percent oxygen added; Product distribution;
参考文献
Scanlon, Michael D.; Hanrahan, Robert J.
Journal of Fluorine Chemistry, 1980 , vol. 16, p. 199 - 208
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