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氟化锑(III)
合成路线
(共 368 条)
558-13-4
四溴化碳
+
7783-56-4
氟化锑(III)
→
反应条件
353-54-8
氟三溴甲烷
反应条件
bromine in neat (no solvent) formation on heating CBr4 with SbF3 and Br2 to 110-120°C;;
参考文献
Gmelin Handbook: C: MVol.D2, 4.2.6.1, page 337 - 337
7783-56-4
氟化锑(III)
→
反应条件
603-36-1
三苯基锑
反应条件
PhLi or PhMgBr in not given 1 equiv. of PhLi or PhMgBr, -90°C;
参考文献
Journal of the Chemical Society, Dalton Transactions: Inorganic Chemistry (1972-1999), , p. 1430 - 1434
36082-50-5
5-溴-2,4-二氯嘧啶
+
7783-56-4
氟化锑(III)
→
反应条件
51-21-8
5-氟脲嘧啶
+
51-20-7
5-溴尿嘧啶
反应条件
暂无反应条件数据
参考文献
PCR, Incorporated
Patent: US4299961 A1, 1981 ;
10026-04-7
四氯硅烷
+
7783-56-4
氟化锑(III)
→
反应条件
14049-36-6
氯三氟硅烷
+
18356-71-3
+
14965-52-7
+
7783-61-1
四氟化硅
反应条件
antimony pentachloride in neat (no solvent) isolation by fractional distillation;;
参考文献
Journal of the American Chemical Society, , vol. 54, p. 4750 - 4751
10026-04-7
四氯硅烷
+
7783-56-4
氟化锑(III)
→
反应条件
7783-61-1
四氟化硅
反应条件
in neat (no solvent) fractionating of the reaction product;;
参考文献
Journal of the American Chemical Society, , vol. 57, p. 1337 - 1342
Si: MVol.B, 224, page 614 - 617
7783-56-4
氟化锑(III)
+
4109-96-0
二氯硅烷
→
反应条件
7783-61-1
四氟化硅
反应条件
in neat (no solvent) reaction at room temperature;;
参考文献
Nature (London, United Kingdom), , vol. 144, p. 328 - 328
Si: MVol.B, 224, page 614 - 617
7783-56-4
氟化锑(III)
+
7789-66-4
溴化硅(IV)
→
反应条件
7783-61-1
四氟化硅
反应条件
in neat (no solvent)
参考文献
Journal of the American Chemical Society, , vol. 58, p. 994 - 996
Si: MVol.B, 224, page 614 - 617
7783-56-4
氟化锑(III)
+
4109-96-0
二氯硅烷
→
反应条件
13824-36-7
+
13465-71-9
+
7783-61-1
四氟化硅
反应条件
in neat (no solvent) byproducts: H2; reaction in presence of SbCl5 at room temperature;;
参考文献
Journal of the Chemical Society, , p. 293 - 296
Si: MVol.B, 233, page 635 - 638
7783-56-4
氟化锑(III)
+
14986-21-1
→
反应条件
14515-39-0
反应条件
in neat (no solvent) at about 60°C under pressure; further products;; condensation; removal of SiF4 by fractional sublimation; isolation by distillation with pressure;;
参考文献
Journal of the American Chemical Society, , vol. 67, p. 1092 - 1096
Si: MVol.B, 264, page 713 - 715
7783-56-4
氟化锑(III)
+
4109-96-0
二氯硅烷
→
反应条件
13824-36-7
+
1333-74-0
+
13465-71-9
+
7783-61-1
四氟化硅
反应条件
in neat (no solvent) fluorination of SiH2Cl2 with SbF3 at room temp. for a longer period of time;;
参考文献
Journal of the Chemical Society, , p. 293 - 296
Si: MVol.B, 233, page 635 - 638
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