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溴化硅(IV)
合成路线
（共 74 条）
13465-74-2
溴三氯硅烷
+
13465-76-4
→
反应条件
10026-04-7
四氯硅烷
+
7789-66-4
溴化硅(IV)
反应条件
in neat (no solvent) passing a mixture of SiBrCl3 and SiBr3Cl through a tube, heated at 600 °C;;
参考文献
Journal of the American Chemical Society, , vol. 66, p. 931 - 933
13465-74-2
溴三氯硅烷
→
反应条件
7789-66-4
溴化硅(IV)
+
13465-75-3
+
13465-76-4
反应条件
in neat (no solvent) passing through a tube, heated at about 600°C;;
参考文献
Journal of the American Chemical Society, , vol. 66, p. 931 - 933
13465-74-2
溴三氯硅烷
+
13465-76-4
→
反应条件
7789-66-4
溴化硅(IV)
+
13465-75-3
反应条件
in neat (no solvent) passing mixture through a tube, heated at about 600°C;;
参考文献
Journal of the American Chemical Society, , vol. 66, p. 931 - 933
13517-13-0
+
80937-33-3
→
反应条件
112926-00-8
高纯度硅胶I
+
7789-66-4
溴化硅(IV)
反应条件
in neat (no solvent) heating at 300°C for a period of some hours;;
参考文献
Journal of the American Chemical Society, , vol. 59, p. 261 - 264
20786-96-3
→
反应条件
860547-17-7
+
112926-00-8
高纯度硅胶I
+
7789-66-4
溴化硅(IV)
反应条件
in neat (no solvent) thermic decomposition in presence of O2 or a inert gas;;
参考文献
Journal of the American Chemical Society, , vol. 59, p. 261 - 264
→
反应条件
7789-57-3
三溴硅烷
+
14791-57-2
+
13768-94-0
+
7789-66-4
溴化硅(IV)
反应条件
in neat (no solvent) reaction of a Cu-Si alloy with gaseous HBr at 340-700 °C, yields depend on the reaction temperature;;
参考文献
Journal of the American Chemical Society, , vol. 52, p. 1464 - 1467
→
反应条件
7789-57-3
三溴硅烷
+
7789-66-4
溴化硅(IV)
反应条件
暂无反应条件数据
参考文献
Journal of the American Chemical Society, , vol. 52, p. 1464 - 1467
7726-95-6
溴
+
7782-50-5
氯
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
7789-66-4
溴化硅(IV)
+
13465-75-3
+
13465-74-2
溴三氯硅烷
+
13465-76-4
反应条件
in neat (no solvent) passing a mixture of Cl2 and Br2 over metallic Si at 700°C;; fractional distillation;;
参考文献
Journal of the American Chemical Society, , vol. 59, p. 651 - 653
Si: MVol.B, 272, page 732 - 735
7726-95-6
溴
+
112926-00-8
高纯度硅胶I
→
反应条件
7789-66-4
溴化硅(IV)
+
13465-76-4
反应条件
C in neat (no solvent) treatment of a mixture of SiO2 and C with crude Br2 at higher temp.;; fractionation;;
参考文献
Chem. News J. Ind. Sci., , vol. 55, p. 223 - 223
Journal of the Chemical Society, , vol. 51, p. 590 - 592
Si: MVol.B, 272, page 732 - 735
7726-95-6
溴
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
7789-66-4
溴化硅(IV)
反应条件
in neat (no solvent) passing of a N2 stream with Br2 vapor over crystalline Si which is heated at 1000°C;; removal of Br2 by heating and shaking with Hg;;
参考文献
Liebigs Annalen der Chemie, , vol. 517, p. 197 - 211
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