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2-硝基甲苯
合成路线
（共 592 条）
118895-50-4
+
612-41-9
2-硝基肉桂酸
→
反应条件
120-72-9
吲哚
+
88-72-2
2-硝基甲苯
+
119009-93-7
反应条件
ammonium o-nitrocinnamate in 1,4-dioxane 90 h; Heating;
参考文献
Journal of Organic Chemistry, , vol. 55, # 3 p. 798 - 811
594-27-4
四甲基锡
+
836-70-4
→
反应条件
88-72-2
2-硝基甲苯
反应条件
palladium diacetate in acetonitrile 2 h; Ambient temperature;
参考文献
Kikukawa, Kiyoshi; Kono, Kiyoshi; Wada, Fumio; Matsuda, Tsutomu
Journal of Organic Chemistry, 1983 , vol. 48, # 8 p. 1333 - 1336
15121-84-3
2-(2-硝基苯基)乙醇
+
100-85-6
苄基三甲基氢氧化铵
+
68-12-2
N,N-二甲基甲酰胺
→
反应条件
88-72-2
2-硝基甲苯
反应条件
暂无反应条件数据
参考文献
US4299992 A1, ;
2100-17-6
4-戊烯醛
+
23308-83-0
(2-硝基苄基)三苯基溴化膦,一水化合物
→
反应条件
88-72-2
2-硝基甲苯
+
76916-64-8
反应条件
in hexane; benzene T=40°C; 168 h; Title compound not separated from byproducts;
参考文献
Journal of Organic Chemistry, , vol. 46, # 11 p. 2215 - 2221
2004-70-8
反-1,3-戊二烯
→
反应条件
88-72-2
2-硝基甲苯
反应条件
1: 62 percent 2: 95 percent / potassium t-butoxide / benzene View Scheme
参考文献
Tetrahedron Letters, , vol. 29, # 16 p. 1879 - 1882
108-88-3
甲苯
→
反应条件
99-08-1
3-硝基甲苯
+
88-72-2
2-硝基甲苯
+
121-14-2
2,4-二硝基甲苯
+
606-20-2
2,6-二硝基甲苯
反应条件
sodium nitrate; sulfuric acid; nitric acid in water T=50°C; 0.25 h; Title compound not separated from byproducts.;
参考文献
Russian Journal of Applied Chemistry, , vol. 80, # 12 p. 2063 - 2072
108-88-3
甲苯
→
反应条件
99-99-0
对硝基甲苯
+
88-72-2
2-硝基甲苯
+
121-14-2
2,4-二硝基甲苯
+
606-20-2
2,6-二硝基甲苯
反应条件
trinitratooxovanadium(V) in dichloromethane 0.1 h; Ambient temperature; Further byproducts given;
参考文献
Journal of the Chemical Society - Perkin Transactions 1, , # 10 p. 1589 - 1590
625-58-1
硝酸乙酯
+
108-88-3
甲苯
→
反应条件
99-99-0
对硝基甲苯
+
88-72-2
2-硝基甲苯
反应条件
sulfuric acid T=40 - 60°C;
参考文献
US2416974 , ;
1809-20-7
亚磷酸二异丙酯
+
3958-60-9
2-硝基苄溴
→
反应条件
16968-19-7
2,2'-二硝基联苄
+
88-72-2
2-硝基甲苯
反应条件
sodium hydride in isopropyl alcohol 3 h; Ambient temperature;
参考文献
Phosphorus, Sulfur and Silicon and the Related Elements, , vol. 107, # 1-4 p. 33 - 48
5437-38-7
3-甲基-2-硝基苯甲酸
→
反应条件
88-72-2
2-硝基甲苯
反应条件
copper(I) oxide T=120°C; 24 h; Ionic liquid;
参考文献
Catalysis Science and Technology, , vol. 3, # 4 p. 992 - 1001
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