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89867-86-7
合成路线
（共 4 条）
89867-80-1
→
反应条件
89867-86-7
反应条件
toluene-4-sulfonic acid in methanol; tetrachloromethane 24 h; Ambient temperature;
参考文献
Shimizu, Nobujiro; Yamaoka, Shintaro; Tsuno, Yuho
Bulletin of the Chemical Society of Japan, 1983 , vol. 56, # 12 p. 3853 - 3854
119-61-9
二苯甲酮
→
反应条件
89867-86-7
反应条件
1: 86 percent / benzene / 4 h / 10 - 15 °C / Irradiation 2: 51 percent / p-toluenesulfonic acid / CCl4; methanol / 24 h / Ambient temperature View Scheme
参考文献
Shimizu, Nobujiro; Yamaoka, Shintaro; Tsuno, Yuho
Bulletin of the Chemical Society of Japan, 1983 , vol. 56, # 12 p. 3853 - 3854
17510-46-2
(1-叔丁基乙烯氧基)三甲基硅烷
→
反应条件
89867-86-7
反应条件
1: 86 percent / benzene / 4 h / 10 - 15 °C / Irradiation 2: 51 percent / p-toluenesulfonic acid / CCl4; methanol / 24 h / Ambient temperature View Scheme
参考文献
Shimizu, Nobujiro; Yamaoka, Shintaro; Tsuno, Yuho
Bulletin of the Chemical Society of Japan, 1983 , vol. 56, # 12 p. 3853 - 3854
89867-86-7
→
反应条件
58343-20-7
反应条件
tetrachloromethane; bis-maleimidodiphenyl-methane acid T=200°C; 1 h;
参考文献
Shimizu, Nobujiro; Yamaoka, Shintaro; Tsuno, Yuho
Bulletin of the Chemical Society of Japan, 1983 , vol. 56, # 12 p. 3853 - 3854
