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三乙基氯硅烷
合成路线
（共 384 条）
994-30-9
三乙基氯硅烷
→
反应条件
150541-99-4
7,13-二-O-(三乙基硅烷基)浆果赤霉素III
反应条件
1.1: pyridine / 0.67 h / 20 °C 2.1: 76 percent / NMO; TPAP; molecular sieves 4 Angstroem / CH2Cl2 / 1 h / 20 °C 3.1: DMAP / 4 h / 100 °C 3.2: DMAP / toluene / 4 h / 100 °C 4.1: P(OMe)3 / 5 h / 110 °C 5.1: 78 percent / PCC; Celite; NaOAc / benzene / 11 h / 95 °C 6.1: 87 percent / K-Selectride / tetrahydrofuran / 4 h / -23 °C 7.1: 98 percent / pyridine / 0.17 h / -23 °C 8.1: 15 percent / CuBr; PhCO3(t-Bu) / acetonitrile / 13 h / -23 °C 9.1: 92 percent / OsO4; pyridine / diethyl ether / 17 h / 20 °C 10.1: 42 percent / DBU / toluene / 1.75 h / 50 °C 11.1: 91 percent / DMAP; pyridine / 13 h / 20 °C 12.1: 94 percent / tetrahydrofuran; cyclohexane; diethyl ether / 0.25 h / -78 °C View Scheme
参考文献
Shiina, Isamu; Iwadare, Hayato; Sakoh, Hiroki; Hasegawa, Masatoshi; Tani, Yu-Ichirou; Mukaiyama, Teruaki
Chemistry Letters, 1998 , # 1 p. 1 - 2
994-30-9
三乙基氯硅烷
→
反应条件
148930-55-6
7-O-(三乙基硅烷基)紫杉醇
反应条件
1: 87 percent / pyridine / 0.5 h / 20 °C 2: 66 percent / DPTC; DMAP / toluene / 4 h / 73 °C 3: 76 percent / H2 / Pd(OH)2/C / ethanol / 23 h / 20 °C View Scheme
参考文献
Chen, Shu-Hui; Huang, Stella; Wei, Jianmei; Farina, Vittorio
Tetrahedron, 1993 , vol. 49, # 14 p. 2805 - 2828
994-30-9
三乙基氯硅烷
→
反应条件
2117-34-2
三乙基(甲氧基)硅烷
反应条件
1: benzene 2: CH3OH View Scheme
参考文献
Kraus, C. A.; Nilson, W. K.
Journal of the American Chemical Society, 1934 , vol. 56, p. 195 - 202
994-30-9
三乙基氯硅烷
+
1067-52-3
三正丁基甲氧基锡
→
反应条件
2117-34-2
三乙基(甲氧基)硅烷
+
1461-22-9
三丁基氯化锡
反应条件
暂无反应条件数据
参考文献
Pommier, J. C.; Pereyre, M.; Valade, J.
Comptes Rendus Hebdomadaires des Seances de l'Academie des Sciences, 1965 , vol. 260, p. 6397 - 6399
994-30-9
三乙基氯硅烷
+
124-41-4
甲醇钠
+
18027-10-6
三甲基硅烷醇酸钠
→
反应条件
2117-34-2
三乙基(甲氧基)硅烷
+
2652-41-7
反应条件
in pentane
参考文献
Rebrov; Muzafarov
Heteroatom Chemistry, 2006 , vol. 17, # 6 p. 514 - 541
994-30-9
三乙基氯硅烷
+
1067-21-6
→
反应条件
2117-34-2
三乙基(甲氧基)硅烷
反应条件
(i) Na, (ii) /BRN= 1732860/; Multistep reaction;
参考文献
Komarov,N.V. et al.
J. Gen. Chem. USSR (Engl. Transl.), 1970 , vol. 40, p. 336 - 339,305 - 308
994-30-9
三乙基氯硅烷
+
1067-52-3
三正丁基甲氧基锡
→
反应条件
2117-34-2
三乙基(甲氧基)硅烷
反应条件
暂无反应条件数据
参考文献
Pommier,J.-C. et al.
Comptes Rendus Hebdomadaires des Seances de l'Academie des Sciences, 1965 , vol. 260, p. 6397 - 6399
994-30-9
三乙基氯硅烷
+
39042-51-8
→
反应条件
3998-25-2
+
2117-34-2
三乙基(甲氧基)硅烷
+
2279-76-7
反应条件
暂无反应条件数据
参考文献
Chauzov, V. A.; Baukov, Yu. I.
Zhurnal Obshchei Khimii, 1972 , vol. 42, p. 1857
Zhurnal Obshchei Khimii, 1972 , vol. 42, p. 1868 - 1869
Full Text Show Details
Gmelin Handbook: Sn: Org.Comp.12, 1.4.1.1.1.3.5, page 25 - 25
994-30-9
三乙基氯硅烷
→
反应条件
648428-52-8
反应条件
1.1: Mg / tetrahydrofuran / 2 h / 0 - 20 °C 1.2: 80 percent / tetrahydrofuran / 12 h / Heating 2.1: 0.14 g / NBS; benzoyl peroxide / CCl4 / 24 h / Heating 3.1: 3.75 g / AgOAc; H2O / ethanol; acetone / 24 h 4.1: 96 percent / DIBALH / CH2Cl2; toluene / 1.17 h / -78 - 0 °C 5.1: 87 percent / saccharin / CH2Cl2 / 24 h / 40 °C View Scheme
参考文献
Huckins, John R.; Rychnovsky, Scott D.
Journal of Organic Chemistry, 2003 , vol. 68, # 26 p. 10135 - 10145
994-30-9
三乙基氯硅烷
→
反应条件
648428-83-5
反应条件
1.1: Mg / tetrahydrofuran / 2 h / 0 - 20 °C 1.2: 80 percent / tetrahydrofuran / 12 h / Heating 2.1: 0.14 g / NBS; benzoyl peroxide / CCl4 / 24 h / Heating View Scheme
参考文献
Huckins, John R.; Rychnovsky, Scott D.
Journal of Organic Chemistry, 2003 , vol. 68, # 26 p. 10135 - 10145
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