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三乙氧基硅烷
合成路线
（共 385 条）
998-30-1
三乙氧基硅烷
+
696-62-8
4-碘苯甲醚
→
反应条件
21130-91-6
三乙氧基(4-甲氧苯基)硅烷
+
100-66-3
苯甲醚
反应条件
triethylamine; [Rh(NCMe)2(cod)][BF4] in N,N-dimethyl-formamide T=80°C; 2 h;
参考文献
Murata, Miki; Yamasaki, Hiyoruki; Ueta, Tsukasa; Nagata, Masayuki; Ishikura, Masanori; Watanabe, Shinji; Masuda, Yuzuru
Tetrahedron, 2007 , vol. 63, # 19 p. 4087 - 4094
998-30-1
三乙氧基硅烷
+
696-62-8
4-碘苯甲醚
→
反应条件
21130-91-6
三乙氧基(4-甲氧苯基)硅烷
反应条件
[Rh(NCMe)2(cod)][BF4]; triethylamine in N,N-dimethyl-formamide T=80°C; 2 h;
参考文献
Murata, Miki; Ishikura, Masanori; Nagata, Masayuki; Watanabe, Shinji; Masuda, Yuzuru
Organic Letters, 2002 , vol. 4, # 11 p. 1843 - 1845
123155-78-2
+
998-30-1
三乙氧基硅烷
→
反应条件
21130-91-6
三乙氧基(4-甲氧苯基)硅烷
反应条件
1: 4-methoxybenzenediazonium tosylate With [RhCl(η2:η2-cycloocta-1,5-diene)]2; tetra-(n-butyl)ammonium iodide; triethylamine in N,N-dimethyl-formamide T=20°C; Sandmeyer reaction; 2 h; Inert atmosphere; 2: 4-bromooctafluorobutanetriethoxysilane in N,N-dimethyl-formamide T=20 - 100°C; Inert atmosphere;
参考文献
Tang, Zhi Yong; Zhang, Yuan; Wang, Tao; Wang, Wei
Synlett, 2010 , # 5 art. no. W16209ST, p. 804 - 808
104-92-7
4-溴苯甲醚
+
998-30-1
三乙氧基硅烷
→
反应条件
21130-91-6
三乙氧基(4-甲氧苯基)硅烷
+
100-66-3
苯甲醚
反应条件
N-ethyl-N,N-diisopropylamine; biphenyl-2-yl-di-tert-butyl-phosphane; bis(dibenzylideneacetone)-palladium(0) in 1-methyl-pyrrolidin-2-one T=20°C; 12 h; Product distribution; Further Variations:ReagentsSolventsTemperatures;
参考文献
Journal of Organic Chemistry, , vol. 66, # 22 p. 7449 - 7455
998-30-1
三乙氧基硅烷
+
66107-29-7
4-甲氧基三氟甲烷磺酸苯酯
→
反应条件
21130-91-6
三乙氧基(4-甲氧苯基)硅烷
+
100-66-3
苯甲醚
反应条件
tetra-(n-butyl)ammonium iodide; triethylamine; [Rhacetylacetonate(1,5-cyclooctadiene)] in N,N-dimethyl-formamide T=100°C; 16 h;
参考文献
Murata, Miki; Yamasaki, Hiyoruki; Ueta, Tsukasa; Nagata, Masayuki; Ishikura, Masanori; Watanabe, Shinji; Masuda, Yuzuru
Tetrahedron, 2007 , vol. 63, # 19 p. 4087 - 4094
998-30-1
三乙氧基硅烷
+
947-42-2
二苯基硅二醇
→
反应条件
2553-19-7
二苯基二乙氧基硅烷
+
262360-58-7
反应条件
in tetrahydrofuran T=23°C; 24 h;
参考文献
SILECS OY; PAULASAARI, Jyri
Patent: WO2012/172176 A2, 2012 ;
Location in patent: Page/Page column 19 ;
112-41-4
1-十二烯
+
998-30-1
三乙氧基硅烷
→
反应条件
112-40-3
正十二烷
+
18536-91-9
N-癸基三乙氧基硅烷
反应条件
RuC3*3H2O; (m-Br-C6H4)PPh2 T=90°C; 5 h; Inert atmosphere;
参考文献
Xue, Mei; Li, Jiayun; Peng, Jiajian; Bai, Ying; Zhang, Guodong; Xiao, Wenjun; Lai, Guoqiao
Applied Organometallic Chemistry, 2014 , vol. 28, # 2 p. 120 - 126
998-30-1
三乙氧基硅烷
+
78-08-0
乙烯基三乙氧基硅烷
→
反应条件
16068-37-4
1,2-双(三乙氧基硅基)乙烷
+
87061-56-1
双(三乙氧基硅基)乙烯
反应条件
Ru(acac)2 2 h; Heating;
参考文献
Polish Journal of Chemistry, , vol. 56, # 2 p. 287 - 296
998-30-1
三乙氧基硅烷
+
74-86-2
乙炔
→
反应条件
78-08-0
乙烯基三乙氧基硅烷
+
87061-56-1
双(三乙氧基硅基)乙烯
反应条件
[RhCl(η2:η2-cycloocta-1,5-diene)]2 T=25°C; 18 h;
参考文献
Organometallics, , vol. 30, # 2 p. 352 - 355
998-30-1
三乙氧基硅烷
+
74-86-2
乙炔
→
反应条件
78-07-9
乙基三乙氧基硅烷
+
78-08-0
乙烯基三乙氧基硅烷
+
16068-37-4
1,2-双(三乙氧基硅基)乙烷
+
87061-56-1
双(三乙氧基硅基)乙烯
反应条件
H2PtCl6*xH2O T=25°C; 3 h;
参考文献
Organometallics, , vol. 30, # 2 p. 352 - 355
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