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三乙氧基硅烷
合成路线
（共 385 条）
111-66-0
1-辛烯
+
998-30-1
三乙氧基硅烷
→
反应条件
111-65-9
正辛烷
+
2943-75-1
正辛基三乙氧基硅烷
反应条件
tris (triphenylphosphine)rhodium(I) chloride T=90°C; 2 h; regioselective reaction;
参考文献
Phosphorus, Sulfur and Silicon and the Related Elements, , vol. 185, # 2 p. 484 - 490
111-66-0
1-辛烯
+
998-30-1
三乙氧基硅烷
→
反应条件
111-65-9
正辛烷
+
2943-75-1
正辛基三乙氧基硅烷
反应条件
RuC3*3H2O; (m-Br-C6H4)PPh2 T=90°C; 5 h; Inert atmosphere;
参考文献
Xue, Mei; Li, Jiayun; Peng, Jiajian; Bai, Ying; Zhang, Guodong; Xiao, Wenjun; Lai, Guoqiao
Applied Organometallic Chemistry, 2014 , vol. 28, # 2 p. 120 - 126
998-30-1
三乙氧基硅烷
+
5666-17-1
N,N-二乙基烯丙胺
→
反应条件
10049-42-0
反应条件
dihydrogen hexachloroplatinate in isopropyl alcohol
参考文献
Belyakova,Z.V. et al.
J. Gen. Chem. USSR (Engl. Transl.), 1974 , vol. 44, p. 1484 - 1489,1456 - 1460
106-92-3
烯丙基缩水甘油醚
+
998-30-1
三乙氧基硅烷
→
反应条件
反应条件
Speier's catalyst T=70 - 90°C; 1.5 h; Further byproducts.;
参考文献
Chernyshev; Belyakova; Knyazeva; Khromykh
Russian Journal of General Chemistry, 2007 , vol. 77, # 1 p. 55 - 61
54509-73-8
+
998-30-1
三乙氧基硅烷
→
反应条件
78-07-9
乙基三乙氧基硅烷
反应条件
C21H34FeO2Si4 in toluene T=20°C; P=760.051 Torr; 5 h; Schlenk technique;
参考文献
Sunada, Yusuke; Tsutsumi, Hironori; Shigeta, Keisuke; Yoshida, Ryota; Hashimoto, Toru; Nagashima, Hideo
Dalton Transactions, 2013 , vol. 42, # 48 p. 16687 - 16692
998-30-1
三乙氧基硅烷
+
78-08-0
乙烯基三乙氧基硅烷
→
反应条件
78-07-9
乙基三乙氧基硅烷
+
16068-37-4
1,2-双(三乙氧基硅基)乙烷
+
52885-14-0
反应条件
bis(acetylacetonate)nickel(II); tri-cyclo-hexyl-phosphine T=120°C; 40 h; Further byproducts given;
参考文献
Marciniec, Bogdan; Maciejewski, Hieronim; Rosenthal, Uwe
Journal of Organometallic Chemistry, 1994 , vol. 484, # 1-2 p. 147 - 152
998-30-1
三乙氧基硅烷
+
78-08-0
乙烯基三乙氧基硅烷
→
反应条件
78-07-9
乙基三乙氧基硅烷
+
16068-37-4
1,2-双(三乙氧基硅基)乙烷
+
52885-14-0
+
91458-95-6
反应条件
[{Ni(η-CH2=CHSiMe2)2O}2{μ-(η-CH2=CHSiMe2)2O}] T=120°C; dehydrogenative coupling; 2 h; Further byproducts given;
参考文献
Maciejewski; Marciniec; Kownacki
Journal of Organometallic Chemistry, 2000 , vol. 597, # 1-2 p. 175 - 181
54509-73-8
+
998-30-1
三乙氧基硅烷
→
反应条件
78-07-9
乙基三乙氧基硅烷
+
78-10-4
硅酸四乙酯
反应条件
Pt(0) hexavinyldisiloxane complex T=23 - 78°C; 0.7 h;
参考文献
Chernyshev; Belyakova; Knyazev; Turkel'taub; Parshina; Serova; Storozhenko
Russian Journal of General Chemistry, 2006 , vol. 76, # 2 p. 225 - 228
998-30-1
三乙氧基硅烷
+
74-86-2
乙炔
→
反应条件
78-07-9
乙基三乙氧基硅烷
+
78-08-0
乙烯基三乙氧基硅烷
+
16068-37-4
1,2-双(三乙氧基硅基)乙烷
反应条件
tris(1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane)-bis-platinum(0) T=5°C; 6 h;
参考文献
Gordillo, Alvaro; Forigua, Johan; Lopez-Mardomingo, Carmen; De Jesus, Ernesto
Organometallics, 2011 , vol. 30, # 2 p. 352 - 355
998-30-1
三乙氧基硅烷
+
74-86-2
乙炔
→
反应条件
78-07-9
乙基三乙氧基硅烷
+
78-08-0
乙烯基三乙氧基硅烷
+
16068-37-4
1,2-双(三乙氧基硅基)乙烷
+
87061-56-1
双(三乙氧基硅基)乙烯
反应条件
H2PtCl6*xH2O T=25°C; 3 h;
参考文献
Gordillo, Alvaro; Forigua, Johan; Lopez-Mardomingo, Carmen; De Jesus, Ernesto
Organometallics, 2011 , vol. 30, # 2 p. 352 - 355
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