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三乙氧基硅烷
合成路线
（共 385 条）
292638-84-7
+
998-30-1
三乙氧基硅烷
→
反应条件
49539-88-0
三甲氧基(2-苯乙基)硅烷
+
92992-67-1
反应条件
C22H17Cl3N4Pt in toluene T=80°C; 24 h; Schlenk technique; regioselective reaction;
参考文献
Adamski, Ariel; Kubicki, Maciej; Pawluc, Piotr; Grabarkiewicz, Tomasz; Patroniak, Violetta
Catalysis Communications, 2013 , vol. 42, p. 79 - 83
998-30-1
三乙氧基硅烷
+
106-99-0
丁二烯
→
反应条件
57813-67-9
3-丁烯三乙氧基硅烷
反应条件
[κ2-((tBu)2PCMe2CH2)PtCl]2; methyl-magnesium chloride in tetrahydrofuran; dichloromethane T=-45 - 50°C; Schlenk techniqueSealed tubeInert atmosphere; Reagent/catalystSolvent; Overall yield = 85 percent; Overall yield = 10.2 g;
参考文献
Parker, Sarah E.; Boergel, Jonas; Ritter, Tobias
Journal of the American Chemical Society, 2014 , vol. 136, # 13 p. 4857 - 4860
998-30-1
三乙氧基硅烷
+
123-54-6
乙酰丙酮
→
反应条件
5630-83-1
乙酰氧基甲基三乙氧基硅烷
+
141-78-6
乙酸乙酯
反应条件
bis(acetylacetonate)nickel(II)
参考文献
Marciniec, Bogdan; Maciejewski, Hieronim; Gulinski, Jacek
Journal of the Chemical Society, Chemical Communications, 1995 , # 7 p. 717 - 718
998-30-1
三乙氧基硅烷
+
123-54-6
乙酰丙酮
→
反应条件
5630-83-1
乙酰氧基甲基三乙氧基硅烷
+
141-78-6
乙酸乙酯
反应条件
暂无反应条件数据
参考文献
Marciniec, Bogdan; Maciejewski, Hieronim; Gulinski, Jacek
Journal of the Chemical Society, Chemical Communications, 1995 , # 7 p. 717 - 718
→
反应条件
5089-70-3
3-氯丙基三乙氧基硅烷
反应条件
in para-xylene
参考文献
US5616762 A1, ;
998-30-1
三乙氧基硅烷
+
107-05-1
氯丙烯
→
反应条件
4667-99-6
三乙氧基氯硅烷
+
5089-70-3
3-氯丙基三乙氧基硅烷
反应条件
di-μ-chloro-bis(η4-1,5-cyclooctadiene)diiridium T=-78 - 30°C; 2 h; Inert atmospherepressure tight tube; Product distribution / selectivity;
参考文献
WO2009/111095 A1, ;
Page/Page column 17-19 ;
998-30-1
三乙氧基硅烷
+
107-05-1
氯丙烯
→
反应条件
78-10-4
硅酸四乙酯
+
135795-91-4
+
4667-99-6
三乙氧基氯硅烷
+
2550-02-9
N-丙基三乙氧基硅烷
+
5089-70-3
3-氯丙基三乙氧基硅烷
反应条件
1: 4-bromooctafluorobutanetriethoxysilane With ruthenium trichloride T=20 - 120°C; Under N2 atmosphere; 2: 3-chloroprop-1-ene T=70 - 120°C; 1 h; Under N2 atmosphere; Product distribution / selectivity;
参考文献
US2004/92759 A1, ;
Page 4-5 ;
998-30-1
三乙氧基硅烷
+
107-05-1
氯丙烯
→
反应条件
5089-70-3
3-氯丙基三乙氧基硅烷
反应条件
dihydrogen hexachloroplatinate; vinyl-triethoxy-silane; isopropyl alcohol T=50 - 80°C; 4 h; influence unsaturated Si-comp. on rate of hydrosilylation; effect of other additives; Product distributionMechanism;
参考文献
Russian Chemical Bulletin, , vol. 47, # 7 p. 1374 - 1378
998-30-1
三乙氧基硅烷
+
107-05-1
氯丙烯
→
反应条件
4667-99-6
三乙氧基氯硅烷
+
2550-02-9
N-丙基三乙氧基硅烷
+
5089-70-3
3-氯丙基三乙氧基硅烷
反应条件
di-μ-chloro-bis(η4-1,5-cyclooctadiene)diiridium T=-78 - 60°C; 1 h; Inert atmospherepressure tight tube; Product distribution / selectivity;
参考文献
WO2009/111095 A1, ;
Page/Page column 17-19 ;
998-30-1
三乙氧基硅烷
+
107-05-1
氯丙烯
→
反应条件
78-10-4
硅酸四乙酯
+
5089-70-3
3-氯丙基三乙氧基硅烷
反应条件
dihydrogen hexachloroplatinate; vinyl-triethoxy-silane T=55 - 65°C;
参考文献
Russian Journal of General Chemistry, , vol. 80, # 4 p. 728 - 733
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