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三乙氧基硅烷
合成路线
（共 385 条）
998-30-1
三乙氧基硅烷
+
78-79-5
异戊二烯
→
反应条件
18002-66-9
反应条件
Fe(acetylacetonate)2; triethylaluminum; cobalt(II) 2,4-pentanedionate
参考文献
Lappert,M.F.; Takahashi,S.
Journal of the Chemical Society, Chemical Communications, 1972 , p. 1272
998-30-1
三乙氧基硅烷
+
2350-89-2
4-乙烯基联苯
→
反应条件
反应条件
platinum; cyclohexanecarboxylic acid in toluene
参考文献
Dow Corning Asia, Ltd.
Patent: US6048994 A1, 2000 ;
3437-95-4
2-碘噻吩
+
998-30-1
三乙氧基硅烷
→
反应条件
188290-36-0
+
17984-89-3
三乙氧基-2-噻吩硅烷
反应条件
N-ethyl-N,N-diisopropylamine; biphenyl-2-yl-di-tert-butyl-phosphane; bis(dibenzylideneacetone)-palladium(0) in 1-methyl-pyrrolidin-2-one T=60°C; 12 h;
参考文献
Manoso; DeShong
Journal of Organic Chemistry, 2001 , vol. 66, # 22 p. 7449 - 7455
1003-09-4
2-溴噻吩
+
998-30-1
三乙氧基硅烷
→
反应条件
188290-36-0
+
17984-89-3
三乙氧基-2-噻吩硅烷
反应条件
N-ethyl-N,N-diisopropylamine; biphenyl-2-yl-di-tert-butyl-phosphane; bis(dibenzylideneacetone)-palladium(0) in 1-methyl-pyrrolidin-2-one T=60°C; 12 h;
参考文献
Manoso; DeShong
Journal of Organic Chemistry, 2001 , vol. 66, # 22 p. 7449 - 7455
998-30-1
三乙氧基硅烷
+
110-83-8
环己烯
→
反应条件
18151-84-3
(三乙氧基硅基)环己烷
反应条件
Bu3NClO4 in various solvent(s) electrochemical oxidation;
参考文献
Okhlobystin, O. Yu.; Berberova, N. T.
Doklady Chemistry, 1993 , vol. 332, # 4 p. 230 - 232
Dokl. Akad. Nauk SSSR Ser. Khim., 1993 , vol. 332, # 5 p. 599 - 600
998-30-1
三乙氧基硅烷
+
107-13-1
丙烯腈
→
反应条件
17932-62-6
2-三乙氧基硅烷基丙腈
反应条件
[Rh(acac)2(CO)2] T=120°C; 3 h;
参考文献
Belyakova; Pomerantseva; Chekrii; Chernyshev; Storozhenko
Russian Journal of General Chemistry, 2010 , vol. 80, # 5 p. 927 - 929
→
反应条件
190334-72-6
反应条件
in toluene
参考文献
DOW CORNING ASIA, Ltd.
Patent: EP771806 A1, 1997 ;
998-30-1
三乙氧基硅烷
+
25069-74-3
N,N-二苯基-4-乙烯基苯胺
→
反应条件
190334-72-6
反应条件
in toluene
参考文献
DOW CORNING ASIA, Ltd.; Dow Corning Toray Silicone Company Limited
Patent: EP771809 A1, 1997 ;
998-30-1
三乙氧基硅烷
+
25069-74-3
N,N-二苯基-4-乙烯基苯胺
→
反应条件
190334-72-6
+
4181-05-9
4-二苯胺基苯甲醛
反应条件
in toluene
参考文献
DOW CORNING ASIA, Ltd.; Dow Corning Toray Silicone Company Limited
Patent: EP771808 A1, 1997 ;
109-04-6
邻溴吡啶
+
998-30-1
三乙氧基硅烷
→
反应条件
213602-91-6
2-吡啶基三乙氧基硅烷
反应条件
[Rh(NCMe)2(cod)][BF4]; tetra-(n-butyl)ammonium iodide; triethylamine in N,N-dimethyl-formamide T=90°C; 12 h; Inert atmosphere;
参考文献
Blakemore, David C.; Marples, Louise A.
Tetrahedron Letters, 2011 , vol. 52, # 32 p. 4192 - 4195
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