您好，欢迎来到魔法化学网！
合作交流
|
服务时间(9:30-18:00)
百科
百科
▼
百科
资讯
搜索
结构式
乙二醇
甲醛
63148-62-9
MDI
丁酮
二甲基亚砜
碳酸氢钠
471-34-1
首页
化合物百科
价格行情
资讯
化工导航
实验室工具
搜索
乙二醇
甲醛
63148-62-9
MDI
丁酮
二甲基亚砜
碳酸氢钠
471-34-1
四氯硅烷
合成路线
（共 846 条）
7719-09-7
氯化亚砜
+
4766-57-8
正硅酸丁酯
→
反应条件
10026-04-7
四氯硅烷
反应条件
N,N-dimethyl-formamide T=55°C; P=760.051 Torr; 64 h;
参考文献
Dow Corning Corporation; Vassilares, Plousia E.; Katsoulis, Dimitris Elias; Kenney, Malcolm E.
Patent: EP2639236 A1, 2013 ;
Location in patent: Paragraph 0042; 0050; 0074-0076 ;
7719-09-7
氯化亚砜
+
682-01-9
四丙氧基硅烷
→
反应条件
10026-04-7
四氯硅烷
反应条件
N,N-dimethyl-formamide T=55°C; P=760.051 Torr; 32 h;
参考文献
Dow Corning Corporation; Vassilares, Plousia E.; Katsoulis, Dimitris Elias; Kenney, Malcolm E.
Patent: EP2639236 A1, 2013 ;
Location in patent: Paragraph 0042; 0074-0076 ;
7719-09-7
氯化亚砜
+
78-10-4
硅酸四乙酯
→
反应条件
10026-04-7
四氯硅烷
反应条件
N,N-dimethyl-formamide T=55°C; P=760.051 Torr; 15 h;
参考文献
Dow Corning Corporation; Vassilares, Plousia E.; Katsoulis, Dimitris Elias; Kenney, Malcolm E.
Patent: EP2639236 A1, 2013 ;
Location in patent: Paragraph 0042; 0074-0076 ;
7719-09-7
氯化亚砜
+
681-84-5
正硅酸甲酯
→
反应条件
10026-04-7
四氯硅烷
反应条件
triethylamine T=55°C; 8 h; Reagent/catalystTimeTemperatureConcentration;
参考文献
Dow Corning Corporation; Vassilares, Plousia E.; Katsoulis, Dimitris Elias; Kenney, Malcolm E.
Patent: EP2639236 A1, 2013 ;
Location in patent: Paragraph 0039; 0071-0073 ;
107-05-1
氯丙烯
→
反应条件
10026-04-7
四氯硅烷
+
141-57-1
丙基三氯硅烷
+
2550-06-3
3-氯丙基三氯硅烷
反应条件
trichlorosilane; platinum (IV)-chloride in dodec-1-ene T=76.01 - 145.88°C; P=1875.19 - 1897.69 Torr; Heating / reflux; Product distribution / selectivity;
参考文献
US2008/45737 A1, ;
Page/Page column 4-5 ;
107-05-1
氯丙烯
→
反应条件
10026-04-7
四氯硅烷
+
2550-06-3
3-氯丙基三氯硅烷
反应条件
Marko catalyst; trichlorosilane in toluene T=40 - 60°C; 16 h; Overall yield = 70 percentSpectr.;
参考文献
Journal of Catalysis, , vol. 295, p. 1 - 14
7719-09-7
氯化亚砜
+
681-84-5
正硅酸甲酯
→
反应条件
10026-04-7
四氯硅烷
+
1825-97-4
反应条件
pyridine T=20°C; P=760.051 Torr; 48 h; Reagent/catalystTimeConcentrationTemperature;
参考文献
EP2639236 A1, ;
Paragraph 0025; 0056-0058 ;
7440-21-3
硅
→
反应条件
75-79-6
甲基三氯硅烷
+
10026-04-7
四氯硅烷
+
10025-78-2
三氯氢硅
+
75-78-5
二氯二甲基硅烷
反应条件
anhydrous methyl chloride; copper in neat (no solvent) mixt. of CH3Cl/N2 (2:5) and Si-Cu (9:1) at 300°C;;
参考文献
Si: MVol.C, 42, page 126 - 128
US2380999 , ;
C. A., , p. 4889
75-79-6
甲基三氯硅烷
→
反应条件
10026-04-7
四氯硅烷
+
10025-78-2
三氯氢硅
反应条件
hydrogen; Rh/C T=800°C; Product distribution / selectivity;
参考文献
WO2012/82686 A1, ;
Page/Page column 28-29 ;
7719-09-7
氯化亚砜
+
681-84-5
正硅酸甲酯
→
反应条件
10026-04-7
四氯硅烷
+
1825-97-4
+
18544-45-1
反应条件
N,N-dimethyl-formamide T=20°C; P=760.051 Torr; 48 h; Reagent/catalystConcentrationTemperatureTime;
参考文献
EP2639236 A1, ;
Paragraph 0025; 0056-0058 ;
1
2
3
4
...
85
下一页
末页
到第
页
确定
