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甲醛
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二甲基亚砜
碳酸氢钠
471-34-1
四氟代肼
合成路线
（共 88 条）
10036-47-2
四氟代肼
+
79-37-8
草酰氯
→
反应条件
75-44-5
光气
+
13637-87-1
+
10578-16-2
+
353-49-1
甲酰氯氟化物
+
16847-30-6
反应条件
other Radiation; UV photolysis, 6h, ratio of educts: (ClCO)2 112 Torr, N2F4 168 Torr; fractionated condensation, gaschromy.;
参考文献
Wright; Shreeve
Inorganic Chemistry, 1973 , vol. 12, p. 77,78, 79
10036-47-2
四氟代肼
+
16847-30-6
→
反应条件
353-49-1
甲酰氯氟化物
反应条件
Irradiation (UV/VIS);
参考文献
Fraser, G. W.; Shreeve, J. M.
Inorganic Chemistry, 1967 , vol. 6, p. 1711 - 1715
10036-47-2
四氟代肼
+
3888-00-4
→
反应条件
335-02-4
三氟-硝基-甲烷
反应条件
Irradiation (UV/VIS); passing N2F4 through O2NCF2C(O)CF3 and radiation with PRK-2 lamp at 120°C;
参考文献
Gmelin Handbook: F: PerFHalOrg.8, 2.4, page 2 - 54
10036-47-2
四氟代肼
+
7782-50-5
氯
→
反应条件
13637-87-1
反应条件
in neat (no solvent) Irradiation (UV/VIS); heating after photolysis at 85°C;; seperation by gas chromatography;;
参考文献
Gmelin Handbook: Cl: SVol.B2, 130, page 588 - 590
10036-47-2
四氟代肼
→
反应条件
13637-87-1
反应条件
chlorine in neat (no solvent) Irradiation (UV/VIS); at 85°C;;
参考文献
Gmelin Handbook: Cl: SVol.A, 152, page 355 - 358
Full Text Show Details
Rohm & Haas Co.
Patent: US3101997 , 1963 ;
C. A., 1963 , vol. 59, p. 14926
→
反应条件
13637-87-1
反应条件
in neat (no solvent) reaction of equimolar mixture at ambient temp.;;
参考文献
Gmelin Handbook: Cl: SVol.B2, 130, page 588 - 590
10036-47-2
四氟代肼
+
79-37-8
草酰氯
→
反应条件
75-44-5
光气
+
13637-87-1
+
10578-16-2
+
353-49-1
甲酰氯氟化物
+
16847-30-6
反应条件
other Radiation; UV photolysis, 6h, ratio of educts: (ClCO)2 112 Torr, N2F4 168 Torr; fractionated condensation, gaschromy.;
参考文献
Wright; Shreeve
Inorganic Chemistry, 1973 , vol. 12, p. 77,78, 79
10036-47-2
四氟代肼
+
7790-99-0
一氯化碘
→
反应条件
13637-87-1
反应条件
in neat (no solvent) Irradiation (UV/VIS); fractionated distillation;;
参考文献
Gmelin Handbook: Cl: SVol.B2, 130, page 588 - 590
10036-47-2
四氟代肼
+
374-10-7
→
反应条件
13693-10-2
+
1512-19-2
+
75-73-0
四氟甲烷
+
7783-60-0
四氟化硫
反应条件
Irradiation (UV/VIS);
参考文献
Gmelin Handbook: F: PerFHalOrg.2, 1.2, page 50 - 76
10036-47-2
四氟代肼
+
1512-14-7
二氟[(三氟甲基)亚氨基]硫(IV)
→
反应条件
13693-10-2
+
13812-43-6
+
75-73-0
四氟甲烷
+
7783-42-8
氟化硫醯基
+
2551-62-4
六氟化硫
反应条件
byproducts: N2, SiF4; Irradiation (UV/VIS); irradiation with a high pressure mercury Hg lamp;
参考文献
Gmelin Handbook: F: PerFHalOrg.9, 5, page 1 - 38
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