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12442-63-6
合成路线
（共 15 条）
12442-63-6
→
反应条件
7601-90-3
高氯酸
+
10049-04-4
二氧化氯
+
7790-93-4
氯酸溶液
反应条件
flash pyrolysis (150°C); HClO3 was not detected;
参考文献
Jansen, Martin; Schatte, Gabriele; Tobias, Klaus M.; Willner, Helge
Inorganic Chemistry, 1988 , vol. 27, p. 1703 - 1706
12442-63-6
→
反应条件
13932-10-0
+
193404-47-6
反应条件
in gaseous matrix byproducts: O2; Irradiation (UV/VIS); dissocn. by photolysis (>250 nm) in argon matrix; ClO3 radicals could not be detected;
参考文献
Jansen, Martin; Schatte, Gabriele; Tobias, Klaus M.; Willner, Helge
Inorganic Chemistry, 1988 , vol. 27, p. 1703 - 1706
12442-63-6
→
反应条件
13932-10-0
+
10049-04-4
二氧化氯
+
12133-63-0
反应条件
in neat (no solvent, gas phase) thermolysis (230°C, Ne or Ar stream, ratio Cl2O6:noble gas 1:500);
参考文献
Grothe, Hinrich; Willner, Helge
Angewandte Chemie - International Edition in English, 1996 , vol. 35, # 7 p. 768 - 769
10049-04-4
二氧化氯
→
反应条件
12442-63-6
反应条件
<b>With</b> <a href="#" onclick="return RXDsubstances(event, this, '4921393', constants.ctx, '0')">ozone</a> <b>in</b> gas<br /> byproducts: O2; 0°C, excess ozone; elimination of ozone and O2 by fractional evaporation at -50°; <br />
参考文献
Lopez, Maria I.; Sicre, Juan E. Journal of Physical Chemistry, 1990 , vol. 94, # 9 p. 3860 - 3863
10028-15-6
臭氧
+
10049-04-4
二氧化氯
→
反应条件
12442-63-6
反应条件
byproducts: O2; can be prepd. in situ quant. by mixing equimolar amounts of ClO2 and O3 in IR cell; <br />
参考文献
Jansen, Martin; Schatte, Gabriele; Tobias, Klaus M.; Willner, Helge Inorganic Chemistry, 1988 , vol. 27, p. 1703 - 1706
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