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139356-35-7
合成路线
（共 4 条）
110-89-4
哌啶
+
139356-35-7
→
反应条件
4096-20-2
N-苯基哌啶
反应条件
in dimethyl sulfoxide T=80°C; 48 h; Molecular sieve;
参考文献
Luo, Jun; Ji, Enwei; Ye, Jingyuan; Wu, Runze; Qiu, Lei
Tetrahedron Letters, 2013 , vol. 54, # 34 p. 4505 - 4508
4071-88-9
(三甲基硅基)乙酸乙酯
+
139356-35-7
→
反应条件
139356-36-8
(3R-反式)-[3,5-二[[(1,1-二甲基乙基)二甲基硅烷基]氧基]环己基亚基]-乙酸乙酯
反应条件
lithium diisopropyl amide in tetrahydrofuran T=-78°C; 2 h;
参考文献
CYTOCHROMA INC.; JOHNS HOPKINS UNIVERSITY; POSNER, Gary, H.; HESS, Lindsey, C.; KALINDA, Alvin, S.; SLACK, Rachel, D.; SAHA, Uttam; PETKOVICH, P., Martin
Patent: WO2011/88209 A2, 2011 ;
Location in patent: Page/Page column 59-60 ;
139356-35-7
→
反应条件
139356-36-8
(3R-反式)-[3,5-二[[(1,1-二甲基乙基)二甲基硅烷基]氧基]环己基亚基]-乙酸乙酯
反应条件
1: trimethylsilyl acetic acid ethyl ester With n-butyllithium; N-ethyl-N,N-diisopropylamine in tetrahydrofuran T=-78 - 0°C; 0.5 h; 2: 3,5-di-(tert-butyl-dimethylsilyloxy)-(3S,5S)-cyclohexan-1-one in tetrahydrofuran T=-78°C; 3.5 h;
参考文献
McGILL UNIVERSITY
Patent: WO2007/131364 A1, 2007 ;
Location in patent: Page/Page column 23; 43 ;
139356-35-7
→
反应条件
139356-39-1
[2-[(3R,5R)-3,5-二[[(叔丁基)二甲基硅烷基]氧基]环己基亚基]乙基]二苯基氧膦
反应条件
1: 86 percent / LDA / tetrahydrofuran / 2 h / -78 °C 2: DIBAL-H / toluene / 1 h / -78 °C 3: 80 percent / N-chlorosuccinimide-dimethylsulfide complex / CH2Cl2 / -25 - 0 °C 4: 1.) nBuLi 2.) H2O2 / 1.) a) 0 deg C b) -78 deg C, 30 min 2.) CHCl3 View Scheme
参考文献
CYTOCHROMA INC.; JOHNS HOPKINS UNIVERSITY; POSNER, Gary, H.; HESS, Lindsey, C.; KALINDA, Alvin, S.; SLACK, Rachel, D.; SAHA, Uttam; PETKOVICH, P., Martin
Patent: WO2011/88209 A2, 2011 ;
