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236753-05-2
合成路线
（共 1 条）
236753-05-2
→
反应条件
7440-02-0
镍
反应条件
in neat (no solvent) He-carrier gas, 150°C; deposition at 300°C (product as film);
参考文献
Senocq, Francois; Urrutigoity, Martine; Caubel, Yannick; Gorrichon, Jean-Pierre; Gleizes, Alain
Inorganica Chimica Acta, 1999 , vol. 288, # 2 p. 233 - 238
