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甲基三氯硅烷
合成路线
（共 444 条）
1558-25-4
(氯甲基)三氯硅烷
+
776-76-1
二苯甲基硅烷
→
反应条件
75-79-6
甲基三氯硅烷
+
144-79-6
甲基二苯基氯硅烷
反应条件
T=125 - 210°C; 12 h;
参考文献
J. Gen. Chem. USSR (Engl. Transl.), , vol. 52, # 11 p. 2565 - 2570,2266 - 2270
4218-23-9
+
75-78-5
二氯二甲基硅烷
→
反应条件
75-79-6
甲基三氯硅烷
+
18171-30-7
反应条件
triphenylphosphine 1 h; Heating;
参考文献
Matsumoto, Hideyuki; Ohkawa, Kazuhiro; Nakano, Taichi; Nagai, Yoichiro
Chemistry Letters, 1980 , p. 721 - 724
1558-25-4
(氯甲基)三氯硅烷
+
789-25-3
三苯基硅烷
→
反应条件
75-79-6
甲基三氯硅烷
+
76-86-8
三苯基氯硅烷
反应条件
T=165 - 250°C; 12 h;
参考文献
J. Gen. Chem. USSR (Engl. Transl.), , vol. 52, # 11 p. 2565 - 2570,2266 - 2270
74-87-3
氯甲烷
→
反应条件
75-54-7
甲基二氯硅烷
+
75-77-4
三甲基氯硅烷
+
75-79-6
甲基三氯硅烷
+
75-78-5
二氯二甲基硅烷
反应条件
copper(l) chloride; zinc(II) chloride; silicon T=399.9°C; P=720.06 Torr; Further byproducts given;
参考文献
Journal of Organometallic Chemistry, , vol. 531, # 1-2 p. 67 - 71
74-87-3
氯甲烷
→
反应条件
75-54-7
甲基二氯硅烷
+
75-79-6
甲基三氯硅烷
+
1066-35-9
二甲基一氯硅烷
+
75-78-5
二氯二甲基硅烷
反应条件
copper(l) chloride; zinc(II) chloride; silicon T=399.9°C; P=720.06 Torr; Further byproducts given;
参考文献
Journal of Organometallic Chemistry, , vol. 531, # 1-2 p. 67 - 71
75-54-7
甲基二氯硅烷
+
75-78-5
二氯二甲基硅烷
→
反应条件
75-79-6
甲基三氯硅烷
反应条件
暂无反应条件数据
参考文献
US6169195 A, ;
75-76-3
四甲基硅烷
+
10038-98-9
四氯化锗
→
反应条件
75-79-6
甲基三氯硅烷
+
993-10-2
三氯甲基锗
+
75-78-5
二氯二甲基硅烷
+
1529-48-2
二氯二甲基锗
反应条件
aluminum tribromide in neat (no solvent) molar ratio Me4Si/GeCl4 = 0.3/1, at 200°C for 65 h, cooled; NMR, mass spectra, chromy.;
参考文献
Organometallics, , vol. 4, p. 1087 - 1089
10025-78-2
三氯氢硅
→
反应条件
75-79-6
甲基三氯硅烷
+
115-21-9
乙基三氯硅烷
+
75-78-5
二氯二甲基硅烷
反应条件
ethane; boron trichloride in neat (no solvent) byproducts: H2; HSiCl3 and C2H6 with BCl3 as catalyst at 475°C under pressure;;
参考文献
Si: MVol.C, 43, page 128 - 130
GB662916 , ;
C. A., , p. 11229
74-87-3
氯甲烷
→
反应条件
75-79-6
甲基三氯硅烷
+
10026-04-7
四氯硅烷
反应条件
Pd5Si T=600°C; Inert atmosphere; Product distribution / selectivity;
参考文献
WO2011/94140 A2, ;
Page/Page column 11 ;
74-87-3
氯甲烷
→
反应条件
75-54-7
甲基二氯硅烷
+
75-79-6
甲基三氯硅烷
+
1066-35-9
二甲基一氯硅烷
反应条件
trichlorosilane; silicon; copper in chloroform T=324.9°C; P=760 Torr; variation of catalists; Product distribution;
参考文献
Journal of Physical Chemistry, , vol. 93, # 14 p. 5563 - 5568
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